| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第10-29页 |
| 1.1 引言 | 第10-14页 |
| 1.1.1 碳化硅材料发展历史 | 第10页 |
| 1.1.2 碳化硅的晶体结构 | 第10-11页 |
| 1.1.3 碳化硅的晶胞参数 | 第11-13页 |
| 1.1.4 碳化硅的性能特点 | 第13页 |
| 1.1.5 碳化硅陶瓷的应用 | 第13-14页 |
| 1.2 碳化硅纳米粉体的制备方法 | 第14-16页 |
| 1.2.1 碳热还原法 | 第15-16页 |
| 1.2.2 激光诱导化学气相沉积法(Laser-assisted CVD) | 第16页 |
| 1.2.3 微波合成法(Microwave synthesis) | 第16页 |
| 1.3 碳化硅纳米粉体的分散 | 第16-20页 |
| 1.3.1 分散介质 | 第16-17页 |
| 1.3.2 分散剂 | 第17页 |
| 1.3.3 p H值 | 第17-18页 |
| 1.3.4 分散方法 | 第18-20页 |
| 1.4 碳化硅基纳米复相陶瓷的烧结方法 | 第20-27页 |
| 1.4.1 碳化硅陶瓷烧结助剂 | 第20-22页 |
| 1.4.2 传统烧结方法 | 第22-25页 |
| 1.4.3 先进烧结方法 | 第25-27页 |
| 1.5 论文选题及创新点 | 第27-28页 |
| 1.5.1 论文选题 | 第27-28页 |
| 1.5.2 课题来源 | 第28页 |
| 1.6 论文的创新点 | 第28-29页 |
| 2 实验内容与方法 | 第29-37页 |
| 2.1 实验原料 | 第29-32页 |
| 2.1.1 原料粉体的XRD分析 | 第29页 |
| 2.1.2 原料粉体的热重/差热分析 | 第29-32页 |
| 2.2 碳化硅与氮化硅纳米粉体分散性试验 | 第32-33页 |
| 2.2.1 酸洗处理和超声震荡 | 第32-33页 |
| 2.2.2 纳米粉体分散沉降实验 | 第33页 |
| 2.3 样品的制备与烧结 | 第33-36页 |
| 2.3.1 纳米混合粉体的制备 | 第34页 |
| 2.3.2 粉体成型 | 第34-35页 |
| 2.3.3 坯体烧结 | 第35-36页 |
| 2.4 实验设备 | 第36页 |
| 2.5 分析方法与测试手段 | 第36-37页 |
| 2.5.1 粉体性能表征 | 第36页 |
| 2.5.2 悬浊液分散性的表征 | 第36页 |
| 2.5.3 坯体与烧结体性能检测 | 第36页 |
| 2.5.4 显微组织与结构分析 | 第36-37页 |
| 3 碳化硅与氮化硅纳米粉体稳定悬浊液的制备 | 第37-48页 |
| 3.1 引言 | 第37页 |
| 3.2 实验方法与内容 | 第37-38页 |
| 3.3 结果与分析 | 第38-47页 |
| 3.3.1 酸洗对纳米碳化硅粉体的影响 | 第38-39页 |
| 3.3.2 超声震荡时间的影响 | 第39-40页 |
| 3.3.3 沉降实验与稳定分散条件 | 第40-47页 |
| 3.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 4 碳化硅纳米陶瓷坯体的超高压成型与烧结 | 第48-59页 |
| 4.1 引言 | 第48页 |
| 4.2 实验方法与内容 | 第48-51页 |
| 4.2.1 碳化硅基纳米混合粉体的制备 | 第48-49页 |
| 4.2.2 坯体成型 | 第49-51页 |
| 4.2.3 纳米碳化硅的烧结 | 第51页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第51-58页 |
| 4.3.1 冷等静压成型与超高压成型 | 第51-55页 |
| 4.3.2 坯体的烧结 | 第55-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 5 烧结体的成分和微观结构分析 | 第59-66页 |
| 5.1 引言 | 第59页 |
| 5.2 烧结体成分分析 | 第59-61页 |
| 5.3 碳化硅烧结体的微观结构分析 | 第61-64页 |
| 5.4 碳化硅烧结体的断裂方式 | 第64-65页 |
| 5.5 本章小结 | 第65-66页 |
| 结论 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-77页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文及研究成果 | 第77页 |