ZnO薄膜及ZnO/MgO多量子阱的制备与表征
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 引言 | 第8-10页 |
| 1 ZnO材料综述 | 第10-19页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第10-13页 |
| ·晶体结构 | 第10-11页 |
| ·能带结构 | 第11-12页 |
| ·电学性质 | 第12页 |
| ·光学性质 | 第12-13页 |
| ·ZnO的应用 | 第13-15页 |
| ·短波长光电器件 | 第13-14页 |
| ·透明导电膜 | 第14页 |
| ·压电器件 | 第14页 |
| ·压敏陶瓷 | 第14页 |
| ·作为GaN的缓冲层 | 第14-15页 |
| ·稀磁半导体 | 第15页 |
| ·ZnO的制备技术 | 第15-19页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第15-16页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第16-17页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第17-18页 |
| ·磁控溅射 | 第18页 |
| ·溶胶—凝胶法(soe-gel) | 第18-19页 |
| 2 薄膜样品的制备及分析 | 第19-29页 |
| ·样品的制备方法 | 第19-22页 |
| ·磁控溅射的基本原理 | 第19-21页 |
| ·所用设备简介 | 第21-22页 |
| ·分析方法简介 | 第22-29页 |
| ·电子探针显微分析(EPMA) | 第22-24页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第24-25页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第25-27页 |
| ·光致发光(PL)光谱 | 第27-28页 |
| ·透射光谱 | 第28-29页 |
| 3 ZnO多层膜量子阱的制备与表征 | 第29-41页 |
| ·ZnO/MgO多量子阱的制备及分析方法 | 第30-31页 |
| ·ZnO/MgO多量子阱的制备方法 | 第30-31页 |
| ·ZnO/MgO多量子阱的表征 | 第31页 |
| ·结果与分析 | 第31-40页 |
| ·结构表征及形貌分析 | 第31-37页 |
| ·光学性质研究 | 第37-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 4 YSZ基片上生长的ZnO薄膜结构及性能研究 | 第41-47页 |
| ·ZnO薄膜的制备及分析方法 | 第42页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第42页 |
| ·ZnO薄膜的表征 | 第42页 |
| ·结果与分析 | 第42-46页 |
| ·结构和形貌分析 | 第42-45页 |
| ·光学性质研究 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-55页 |
