| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 VO_x的晶体结构及性质 | 第11-13页 |
| 1.2.1 钒的氧化物性质 | 第11-12页 |
| 1.2.2 VO_2的原子结构及其性质 | 第12-13页 |
| 1.3 氧化钒薄膜的相变特性 | 第13-16页 |
| 1.3.1 VO_2的相变特性 | 第13-15页 |
| 1.3.2 VO_2薄膜的相变理论 | 第15-16页 |
| 1.4 氧化钒薄膜的应用 | 第16-18页 |
| 1.4.1 节能玻璃 | 第16-17页 |
| 1.4.2 光存储材料 | 第17页 |
| 1.4.3 红外脉冲激光保护膜 | 第17页 |
| 1.4.4 光电开关 | 第17-18页 |
| 1.4.5 其他方面 | 第18页 |
| 1.5 国内外氧化钒研究发展 | 第18-20页 |
| 1.6 本论文的主要工作 | 第20-23页 |
| 1.6.1 选题依据 | 第20-21页 |
| 1.6.2 主要研究内容 | 第21页 |
| 1.6.3 论文的内容安排 | 第21-23页 |
| 第二章 氧化钒薄膜的制备和测试方法 | 第23-32页 |
| 2.1 氧化钒薄膜制备方法 | 第23-27页 |
| 2.1.1 脉冲激光沉积法 | 第23-24页 |
| 2.1.2 蒸发法 | 第24页 |
| 2.1.3 溶胶-凝胶法 | 第24-25页 |
| 2.1.4 化学气相沉积 | 第25页 |
| 2.1.5 溅射法 | 第25-26页 |
| 2.1.6 不同制备方法的比较 | 第26-27页 |
| 2.2 氧化钒薄膜的测试分析方法 | 第27-31页 |
| 2.2.1 电学特性分析 | 第27-30页 |
| 2.2.2 表面形貌分析 | 第30页 |
| 2.2.3 薄膜组分分析 | 第30-31页 |
| 2.3 本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 磁控溅射制备氧化钒薄膜 | 第32-58页 |
| 3.1 磁控溅射反应环境仿真模拟 | 第32-36页 |
| 3.1.1 磁控溅射仪反应室结构 | 第32-34页 |
| 3.1.2 气流场和温度场的模拟 | 第34-36页 |
| 3.2 实验设备 | 第36页 |
| 3.3 实验原理 | 第36-37页 |
| 3.4 制备薄膜工艺流程 | 第37-38页 |
| 3.4.1 基片的清洗 | 第37-38页 |
| 3.4.2 实验工艺流程 | 第38页 |
| 3.5 针对薄膜光学透过率正交试验分析 | 第38-44页 |
| 3.5.1 正交试验的基本原理 | 第38-40页 |
| 3.5.2 正交表的设计 | 第40-41页 |
| 3.5.3 正交表的试验结果分析 | 第41-44页 |
| 3.5.3.1 确定试验因素的优水平和最优试验组合 | 第42-43页 |
| 3.5.3.2 确定各因素之间的主次顺序 | 第43-44页 |
| 3.6 验证不同制备条件下氧化钒薄膜光学透过率 | 第44-53页 |
| 3.6.1 验证针对不同性能指标最优组合 | 第44-45页 |
| 3.6.2 验证针对不同性能指标影响权重最高因素对薄膜影响 | 第45-50页 |
| 3.6.2.1 不同退火时间条件下制备的氧化钒薄膜 | 第45-46页 |
| 3.6.2.2 不同氧含量条件下制备的氧化钒薄膜 | 第46-49页 |
| 3.6.2.3 不同退火温度条件下制备的氧化钒薄膜 | 第49-50页 |
| 3.6.3 其他条件下制备的氧化钒薄膜 | 第50-53页 |
| 3.6.3.1 不同衬底条件下制备的氧化钒薄膜 | 第50-51页 |
| 3.6.3.2 不同衬底温度条件下制备的氧化钒薄膜 | 第51-52页 |
| 3.6.3.3 不同溅射时间条件下制备的氧化钒薄膜 | 第52-53页 |
| 3.7 改善薄膜光学透过率分析 | 第53-57页 |
| 3.7.1 增透膜的厚度优化原理 | 第53-54页 |
| 3.7.2 增透膜的厚度优化 | 第54-57页 |
| 3.8 本章小结 | 第57-58页 |
| 第四章 随机阻抗模型模拟氧化钒电阻-温度特性 | 第58-69页 |
| 4.1 随机阻抗模型建立的基础 | 第58-59页 |
| 4.2 随机阻抗模型的建立 | 第59-68页 |
| 4.2.1 单元电阻 | 第59-60页 |
| 4.2.2 薄膜中各成分阻值的计算 | 第60-61页 |
| 4.2.3 单元电阻阻值的确定 | 第61页 |
| 4.2.4 网格等效电阻的确定 | 第61-64页 |
| 4.2.5 VO_2等效电阻的讨论 | 第64-66页 |
| 4.2.6 薄膜材料网格等效电阻与温度T之间表达式的确定 | 第66-67页 |
| 4.2.7 对薄膜进行XPS测试并分析结果 | 第67-68页 |
| 4.3 本章小结 | 第68-69页 |
| 第五章 结论和展望 | 第69-71页 |
| 5.1 结论 | 第69-70页 |
| 5.1.1 正交试验的结果分析 | 第69页 |
| 5.1.2 其他制备条件对薄膜光学透过率影响 | 第69-70页 |
| 5.2 展望 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-77页 |
