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纳米氧化钒薄膜的制备及特性研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第11-23页
    1.1 引言第11页
    1.2 VO_x的晶体结构及性质第11-13页
        1.2.1 钒的氧化物性质第11-12页
        1.2.2 VO_2的原子结构及其性质第12-13页
    1.3 氧化钒薄膜的相变特性第13-16页
        1.3.1 VO_2的相变特性第13-15页
        1.3.2 VO_2薄膜的相变理论第15-16页
    1.4 氧化钒薄膜的应用第16-18页
        1.4.1 节能玻璃第16-17页
        1.4.2 光存储材料第17页
        1.4.3 红外脉冲激光保护膜第17页
        1.4.4 光电开关第17-18页
        1.4.5 其他方面第18页
    1.5 国内外氧化钒研究发展第18-20页
    1.6 本论文的主要工作第20-23页
        1.6.1 选题依据第20-21页
        1.6.2 主要研究内容第21页
        1.6.3 论文的内容安排第21-23页
第二章 氧化钒薄膜的制备和测试方法第23-32页
    2.1 氧化钒薄膜制备方法第23-27页
        2.1.1 脉冲激光沉积法第23-24页
        2.1.2 蒸发法第24页
        2.1.3 溶胶-凝胶法第24-25页
        2.1.4 化学气相沉积第25页
        2.1.5 溅射法第25-26页
        2.1.6 不同制备方法的比较第26-27页
    2.2 氧化钒薄膜的测试分析方法第27-31页
        2.2.1 电学特性分析第27-30页
        2.2.2 表面形貌分析第30页
        2.2.3 薄膜组分分析第30-31页
    2.3 本章小结第31-32页
第三章 磁控溅射制备氧化钒薄膜第32-58页
    3.1 磁控溅射反应环境仿真模拟第32-36页
        3.1.1 磁控溅射仪反应室结构第32-34页
        3.1.2 气流场和温度场的模拟第34-36页
    3.2 实验设备第36页
    3.3 实验原理第36-37页
    3.4 制备薄膜工艺流程第37-38页
        3.4.1 基片的清洗第37-38页
        3.4.2 实验工艺流程第38页
    3.5 针对薄膜光学透过率正交试验分析第38-44页
        3.5.1 正交试验的基本原理第38-40页
        3.5.2 正交表的设计第40-41页
        3.5.3 正交表的试验结果分析第41-44页
            3.5.3.1 确定试验因素的优水平和最优试验组合第42-43页
            3.5.3.2 确定各因素之间的主次顺序第43-44页
    3.6 验证不同制备条件下氧化钒薄膜光学透过率第44-53页
        3.6.1 验证针对不同性能指标最优组合第44-45页
        3.6.2 验证针对不同性能指标影响权重最高因素对薄膜影响第45-50页
            3.6.2.1 不同退火时间条件下制备的氧化钒薄膜第45-46页
            3.6.2.2 不同氧含量条件下制备的氧化钒薄膜第46-49页
            3.6.2.3 不同退火温度条件下制备的氧化钒薄膜第49-50页
        3.6.3 其他条件下制备的氧化钒薄膜第50-53页
            3.6.3.1 不同衬底条件下制备的氧化钒薄膜第50-51页
            3.6.3.2 不同衬底温度条件下制备的氧化钒薄膜第51-52页
            3.6.3.3 不同溅射时间条件下制备的氧化钒薄膜第52-53页
    3.7 改善薄膜光学透过率分析第53-57页
        3.7.1 增透膜的厚度优化原理第53-54页
        3.7.2 增透膜的厚度优化第54-57页
    3.8 本章小结第57-58页
第四章 随机阻抗模型模拟氧化钒电阻-温度特性第58-69页
    4.1 随机阻抗模型建立的基础第58-59页
    4.2 随机阻抗模型的建立第59-68页
        4.2.1 单元电阻第59-60页
        4.2.2 薄膜中各成分阻值的计算第60-61页
        4.2.3 单元电阻阻值的确定第61页
        4.2.4 网格等效电阻的确定第61-64页
        4.2.5 VO_2等效电阻的讨论第64-66页
        4.2.6 薄膜材料网格等效电阻与温度T之间表达式的确定第66-67页
        4.2.7 对薄膜进行XPS测试并分析结果第67-68页
    4.3 本章小结第68-69页
第五章 结论和展望第69-71页
    5.1 结论第69-70页
        5.1.1 正交试验的结果分析第69页
        5.1.2 其他制备条件对薄膜光学透过率影响第69-70页
    5.2 展望第70-71页
致谢第71-72页
参考文献第72-77页

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