摘要 | 第3-4页 |
ABSTRACT | 第4页 |
第一章 绪论 | 第8-23页 |
1.1 引言 | 第8页 |
1.2 纳米材料概述 | 第8-15页 |
1.2.1 纳米材料分类 | 第9页 |
1.2.2 纳米材料特性 | 第9-10页 |
1.2.3 纳米材料应用 | 第10-13页 |
1.2.4 纳米材料制备 | 第13-15页 |
1.3 半导体光催化 | 第15-21页 |
1.3.1 半导体光催化概述 | 第15-16页 |
1.3.2 半导体光催化剂的能带结构 | 第16-17页 |
1.3.3 半导体光催化材料概述 | 第17页 |
1.3.4 半导体光催化的应用 | 第17-18页 |
1.3.5 半导体光催化剂的降解原理 | 第18页 |
1.3.6 半导体光催化剂的活性影响因素 | 第18-20页 |
1.3.7 半导体光催化剂的改性技术 | 第20-21页 |
1.4 本课题内容 | 第21-23页 |
第二章 实验材料和表征方法 | 第23-27页 |
2.1 实验仪器与化学试剂 | 第23页 |
2.2 纳米材料的研究方法 | 第23-27页 |
2.2.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第23页 |
2.2.2 透射电子显微镜(TEM)与高分辨透射电子显微镜(HRTEM) | 第23-24页 |
2.2.3 能量散射型 X 射线荧光光谱(EDX)分析 | 第24-25页 |
2.2.4 X-射线衍射(XRD)分析 | 第25页 |
2.2.5 傅里叶转换红外线光谱(FTIR)分析 | 第25页 |
2.2.6 比表面积测试(BET) | 第25-27页 |
第三章 WO_3纳米片:基于无机-有机杂化前驱物的制备及光催化性能 | 第27-39页 |
3.1 前言 | 第27-28页 |
3.2 实验部分 | 第28-31页 |
3.2.1 实验试剂 | 第28页 |
3.2.2 实验仪器设备 | 第28-29页 |
3.2.3 测试表征仪器 | 第29页 |
3.2.4 水热反应釜的清洗 | 第29-30页 |
3.2.5 WO_3纳米片合成过程 | 第30页 |
3.2.6 产物表征 | 第30-31页 |
3.3 反应产物转化 | 第31-33页 |
3.4 实验参数讨论 | 第33-36页 |
3.4.1 酸化温度 | 第33-34页 |
3.4.2 酸化时间 | 第34-35页 |
3.4.3 酸化浓度 | 第35-36页 |
3.5 光催化实验 | 第36-38页 |
3.6 本章小结 | 第38-39页 |
第四章 Ag_2ZnGeO_4微粒:基于无机-有机杂化前驱物的制备及光催化性能 | 第39-53页 |
4.1 前言 | 第39-40页 |
4.2 实验部分 | 第40-42页 |
4.2.1 实验试剂 | 第40-41页 |
4.2.2 实验仪器设备 | 第41页 |
4.2.3 测试表征仪器 | 第41页 |
4.2.4 水热反应釜的清洗 | 第41页 |
4.2.5 Ag_2ZnGeO_4微粒合成过程 | 第41-42页 |
4.2.6 产物表征 | 第42页 |
4.3 结果讨论 | 第42-48页 |
4.3.1 反应产物转化 | 第42-45页 |
4.3.2 中间过程分析 | 第45-48页 |
4.4 光催化实验 | 第48-52页 |
4.4.1 光催化实验 | 第48-49页 |
4.4.2 光催化降解罗丹明 B | 第49-52页 |
4.5 本章小结 | 第52-53页 |
第五章 结论 | 第53-54页 |
参考文献 | 第54-62页 |
发表论文与参加科研情况说明 | 第62-63页 |
致谢 | 第63页 |