摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-8页 |
1 绪论 | 第12-23页 |
1.1 引言 | 第12-13页 |
1.2 返黄抑制剂的概述 | 第13-20页 |
1.2.1 返黄抑制剂类型和作用机制 | 第13-17页 |
1.2.2 返黄抑制剂的发展现状 | 第17-20页 |
1.2.3 返黄抑制剂的研究趋势 | 第20页 |
1.3 课题研究内容及意义 | 第20-22页 |
1.4 创新点 | 第22-23页 |
2 含硅氧烷的二苯乙烯型返黄抑制剂的合成与性能研究 | 第23-40页 |
2.1 引言 | 第23页 |
2.2 实验部分 | 第23-26页 |
2.2.1 实验试剂与仪器 | 第23-24页 |
2.2.2 含硅氧烷的二苯乙烯型返黄抑制剂的制备 | 第24-25页 |
2.2.3 目标产物的结构与性能分析 | 第25-26页 |
2.2.4 应用性能测试 | 第26页 |
2.3 结果与讨论 | 第26-39页 |
2.3.1 红外光谱表征 | 第26-27页 |
2.3.2 核磁共振氢谱分析 | 第27页 |
2.3.3 X射线光电子能谱(XPS)表征 | 第27-29页 |
2.3.4 紫外吸收及光致异构化研究 | 第29-31页 |
2.3.5 荧光光学性质分析 | 第31-32页 |
2.3.6 质量浓度对荧光性质的影响 | 第32-33页 |
2.3.7 溶剂极性对荧光性质的影响 | 第33-34页 |
2.3.8 pH对荧光性质的影响 | 第34-35页 |
2.3.9 荧光量子产率分析 | 第35-36页 |
2.3.10 目标产物的最佳用量及返黄抑制效果 | 第36-39页 |
2.4 本章小结 | 第39-40页 |
3 纳米SiO_2改性二苯乙烯型荧光小分子的返黄抑制剂的制备及性能研究 | 第40-56页 |
3.1 引言 | 第40页 |
3.2 实验部分 | 第40-42页 |
3.2.1 实验试剂及仪器 | 第40页 |
3.2.2 二苯乙烯型荧光小分子复合纳米SiO2的制备 | 第40-41页 |
3.2.3 目标产物的结构与性能分析 | 第41-42页 |
3.2.4 应用性能测试 | 第42页 |
3.3 结果与讨论 | 第42-54页 |
3.3.1 红外光谱表征 | 第42-43页 |
3.3.2 X射线光电子能谱(XPS)表征 | 第43-44页 |
3.3.3 透射电镜(TEM)分析 | 第44-45页 |
3.3.4 粒径分布分析 | 第45-46页 |
3.3.5 热稳定性分析 | 第46-47页 |
3.3.6 紫外可见吸收光谱分析 | 第47-48页 |
3.3.7 荧光光学性能分析 | 第48-50页 |
3.3.8 荧光增白剂添加量对荧光性质的影响 | 第50-51页 |
3.3.9 pH对荧光性质的影响 | 第51-52页 |
3.3.10 目标产物的应用效果 | 第52-54页 |
3.4 本章小结 | 第54-56页 |
4 纳米SiO_2改性二苯乙烯型荧光聚合物的返黄抑制剂的制备及性能研究 | 第56-75页 |
4.1 引言 | 第56页 |
4.2 实验部分 | 第56-58页 |
4.2.1 实验试剂及仪器 | 第56页 |
4.2.2 二苯乙烯型荧光聚合物复合纳米SiO2的制备 | 第56-58页 |
4.2.3 目标产物的结构与性能分析 | 第58页 |
4.2.4 应用性能测试 | 第58页 |
4.3 结果与讨论 | 第58-74页 |
4.3.1 红外光谱表征 | 第58-60页 |
4.3.2 X射线光电子能谱(XPS)表征 | 第60-61页 |
4.3.3 透射电镜(TEM)表征 | 第61-62页 |
4.3.4 扫描电镜(SEM)表征 | 第62-63页 |
4.3.5 热稳定性分析 | 第63-64页 |
4.3.6 紫外可见吸收光谱分析 | 第64-66页 |
4.3.7 荧光光学性能分析 | 第66-68页 |
4.3.8 荧光聚合物的添加量对荧光性质的影响 | 第68-69页 |
4.3.9 pH对荧光性质的影响 | 第69-70页 |
4.3.10 溶剂对荧光性质的影响 | 第70-71页 |
4.3.11 目标产物的应用效果 | 第71-74页 |
4.4 本章小结 | 第74-75页 |
5 结论与展望 | 第75-77页 |
5.1 结论 | 第75-76页 |
5.2 展望 | 第76-77页 |
致谢 | 第77-78页 |
参考文献 | 第78-84页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第84-85页 |