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NiO基p型透明导电氧化物薄膜及其二极管的研究

摘要第1-8页
Abstract第8-11页
第一章 绪论第11-40页
   ·引言第11-12页
   ·p型透明导电氧化物薄膜的研究现状第12-29页
     ·AMO_2铜铁矿基材料第12-15页
     ·SrCu_2O_2材料第15-16页
     ·层状结构的氧硫族化合物第16-17页
     ·主族二元氧化物p型掺杂第17-20页
     ·氧化镍p型透明导电薄膜第20-21页
     ·透明氧化物薄膜二极管第21-24页
     ·p型氧化物沟道层TFT第24-27页
     ·小结与展望第27-29页
   ·本课题的主要研究思路与内容第29-30页
 参考文献第30-40页
第二章 薄膜制备及表征方法第40-51页
   ·制备方法第40-44页
     ·脉冲等离子体沉积第40-42页
     ·直流反应磁控溅射第42-44页
     ·真空热蒸镀第44页
   ·性能测试与表征第44-50页
     ·薄膜厚度测试第44-45页
     ·薄膜微结构分析测试及原理第45-47页
     ·薄膜电学性能测试第47-49页
     ·薄膜光学性能测试第49页
     ·二极管电学性能测试第49-50页
 参考文献第50-51页
第三章 掺铜氧化镍薄膜的研究第51-71页
   ·引言第51页
   ·沉积靶材的制备第51-53页
   ·薄膜的制备与性能研究第53-68页
     ·掺杂浓度对薄膜性能的影响第53-56页
     ·工作气压对薄膜性能的影响第56-59页
     ·制备温度对薄膜性能的影响第59-67页
     ·烧蚀功率对薄膜性能的影响第67-68页
   ·本章小结第68-69页
 参考文献第69-71页
第四章 掺钾氧化镍薄膜的研究第71-83页
   ·引言第71页
   ·沉积靶材的制备第71-72页
   ·薄膜的制备与表征第72-81页
     ·薄膜的结构与表面形貌第72-75页
     ·薄膜的电学性能第75-79页
     ·薄膜的光学性能第79-81页
   ·本章小结第81-82页
 参考文献第82-83页
第五章 NiO基p型透明导电薄膜的第一性原理研究第83-91页
   ·引言第83页
   ·第一性原理计算与CASTEP软件第83-85页
   ·理论模型构建与计算设置第85-86页
   ·能带结构与态密度的计算结果与讨论第86-89页
   ·本章小结第89-90页
 参考文献第90-91页
第六章 透明氧化物p-NiCuO/n-IWO异质结的研究第91-105页
   ·引言第91-92页
   ·近红外高透射率多晶IWO透明薄膜底电极的制备与研究第92-97页
     ·薄膜电极的结构与表面形貌第92-95页
     ·薄膜电极的电学性能第95-96页
     ·薄膜电极的光学性能第96-97页
   ·n型透明氧化物半导体层IWO薄膜的制备与研究第97-98页
   ·p-Ni_(0.9)Cu_(0.1)O/n-IWO异质结的性能研究第98-101页
     ·薄膜二极管的制备第98-99页
     ·异质结薄膜二极管的性质第99-101页
   ·本章小结第101-103页
 参考文献第103-105页
第七章 室温生长全透明非晶氧化物薄膜二极管第105-123页
   ·引言第105-106页
   ·非晶透明导电氧化物α-IWO薄膜电极的制备与研究第106-112页
     ·α-IWO薄膜的电学性能第107-109页
     ·α-IWO薄膜的光学性能第109-110页
     ·α-IWO薄膜的表面形貌第110-112页
   ·n型非晶透明氧化物半导体层α-IZO薄膜的制备与研究第112-116页
     ·α-IZO薄膜的电学性能第112-113页
     ·α-IZO薄膜的光学性能第113-114页
     ·α-IZO薄膜的表面形貌第114-116页
   ·薄膜二极管的制备与性能研究第116-119页
     ·薄膜二极管的制备第116-117页
     ·薄膜二极管的性能研究第117-119页
   ·本章小结第119-121页
 参考文献第121-123页
第八章 全文总结第123-125页
附录 攻读博士学位期间科研成果一览第125-127页
致谢第127-129页

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