| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 文献综述 | 第11-25页 |
| 1.1 前言 | 第11-12页 |
| 1.2 金刚石的性质、制备及应用 | 第12-16页 |
| 1.2.1 金刚石的结构与性质 | 第12-15页 |
| 1.2.2 CVD金刚石的制备 | 第15页 |
| 1.2.3 CVD金刚石应用现状 | 第15-16页 |
| 1.3 金刚石抛光 | 第16-21页 |
| 1.3.1 金刚石表面抛光机制 | 第16-18页 |
| 1.3.2 CVD金刚石抛光技术 | 第18-21页 |
| 1.4 本工作的主要意义和研究内容 | 第21-25页 |
| 第2章 实验设备与表征 | 第25-31页 |
| 2.1 金刚石片的制备 | 第25-26页 |
| 2.2 CVD金刚石片抛光 | 第26-29页 |
| 2.2.1 等离子体刻蚀 | 第26-28页 |
| 2.2.2 机械抛光装置 | 第28-29页 |
| 2.3 金刚石膜的表征 | 第29-31页 |
| 第3章 ECR等离子体刻蚀增强CVD金刚石机械抛光 | 第31-39页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 等离子体刻蚀对金刚石膜机械抛光的影响 | 第31-37页 |
| 3.3 抛光机理的分析 | 第37-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 刻蚀工艺参数对刻蚀增强机械抛光的影响 | 第39-53页 |
| 4.1 引言 | 第39页 |
| 4.2 磁场位形对刻蚀增强机械抛光的影响 | 第39-42页 |
| 4.3 样品台大小对刻蚀增强机械抛光的影响 | 第42-45页 |
| 4.4 样品台偏压对刻蚀增强机械抛光的影响 | 第45-51页 |
| 4.5 本章小结 | 第51-53页 |
| 第5章 掩膜在刻蚀增强机械抛光中的作用 | 第53-62页 |
| 5.1 引言 | 第53-54页 |
| 5.2 掩膜的使用以及其抛光效果的研究 | 第54-59页 |
| 5.3 CVD金刚石表面的精加工及性能检测 | 第59-60页 |
| 5.3.1 抛光前后金刚石膜表面质量的变化 | 第59-60页 |
| 5.3.2 抛光前后金刚石膜表面润湿角的变化 | 第60页 |
| 5.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 第6章 论文总结与展望 | 第62-64页 |
| 6.1 论文总结 | 第62-63页 |
| 6.2 论文展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |