钛锆酸铅和聚偏氟乙烯共聚物铁电薄膜的制备工艺与电学表征
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 引言 | 第6-12页 |
| ·铁电材料概述 | 第6页 |
| ·铁电材料的发展 | 第6-8页 |
| ·无机铁电材料 | 第8-9页 |
| ·有机铁电聚合物材料 | 第9-11页 |
| ·本论文研究的背景意义 | 第11-12页 |
| 第二章 常见铁电薄膜分析方法 | 第12-22页 |
| ·X射线衍射分析 | 第12-14页 |
| ·扫描探针显微技术(SPM) | 第14-18页 |
| ·铁电性能的电学表征 | 第18-22页 |
| 第三章 铁电材料的制备方法 | 第22-32页 |
| ·溅射镀膜法 | 第23页 |
| ·金属有机化合物气相沉积(MOCVD) | 第23-24页 |
| ·金属有机热化合物热分解法(MOD) | 第24-25页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第25页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第25-27页 |
| ·聚偏氟乙烯聚合物制备方法 | 第27-32页 |
| 第四章 锆钛酸铅薄膜制备工艺及表征 | 第32-47页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·锆钛酸铅薄膜制备工艺 | 第32-36页 |
| ·PZT薄膜性能分析 | 第36-41页 |
| ·PZT/Al_2O_3双层膜性能分析 | 第41-46页 |
| ·本章总结 | 第46-47页 |
| 第五章 聚偏氟乙烯共聚物薄膜制备与表征 | 第47-56页 |
| ·薄膜制备 | 第47页 |
| ·XRD相分析 | 第47-48页 |
| ·不同工艺条件对膜的影响 | 第48-51页 |
| ·保持特性 | 第51页 |
| ·C-V特性 | 第51-52页 |
| ·薄膜的SPM技术分析 | 第52-54页 |
| ·本章总结 | 第54-56页 |
| 第六章 全文总结 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
