中文摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 前言 | 第11-39页 |
引言 | 第11页 |
1.1 二氧化硅粒子的合成方法 | 第11-17页 |
1.1.1 气相法 | 第11-12页 |
1.1.2 沉淀法 | 第12-13页 |
1.1.3 微乳液法 | 第13-15页 |
1.1.4 溶胶-凝胶法 | 第15-17页 |
1.2 二氧化硅粒子的表面修饰 | 第17-23页 |
1.2.1 二氧化硅粒子表面性质 | 第17-18页 |
1.2.2 二氧化硅表面修饰的方法 | 第18-21页 |
1.2.3 二氧化硅表面氨基及羧基的修饰 | 第21-23页 |
1.3 二氧化硅粒子在 DNA 提取中的应用 | 第23-30页 |
1.3.1 DNA 的结构与性质 | 第23-26页 |
1.3.2 DNA 的提取与检测 | 第26-27页 |
1.3.3 二氧化硅粒子在 DNA 提取中的应用 | 第27-30页 |
1.4 本文的设计思想 | 第30-32页 |
参考文献 | 第32-39页 |
第二章 IDA-APS 共修饰的二氧化硅粒子对 DNA 的吸附、脱附行为 | 第39-55页 |
引言 | 第39-40页 |
2.1 实验部分 | 第40-43页 |
2.1.1 实验试剂与仪器 | 第40页 |
2.1.1.1 试剂与药品 | 第40页 |
2.1.1.2 测试仪器 | 第40页 |
2.1.2 二氧化硅粒子的制备 | 第40-41页 |
2.1.3 二氧化硅表面 IDA-APS 的共修饰 | 第41-42页 |
2.1.4 粒子表面羧基含量的确定 | 第42页 |
2.1.5 IDA-APS 的共修饰的二氧化硅粒子对 DNA 的吸附和脱附 | 第42-43页 |
2.2 结果与讨论 | 第43-50页 |
2.2.1 IDA-APS 共修饰的二氧化硅粒子的表征 | 第43-45页 |
2.2.2 IDA-APS 共修饰的二氧化硅粒子表面修饰 IDA 含量的测定 | 第45-46页 |
2.2.3 IDA-APS 共修饰的二氧化硅粒子对 DNA 的吸附/脱附行为 | 第46-49页 |
2.2.4 IDA/APS 不同比例修饰的二氧化硅粒子对 DNA 的吸附、脱附 | 第49-50页 |
2.3 本章小结 | 第50-52页 |
参考文献 | 第52-55页 |
第三章 DNA 在 Fe~(3+)-IDA-APS 修饰的二氧化硅粒子表面吸附行为的研究 | 第55-69页 |
引言 | 第55-56页 |
3.1 实验部分 | 第56-57页 |
3.1.1 试剂与药品 | 第56页 |
3.1.2 测试仪器与方法 | 第56页 |
3.1.3 表面螯合金属离子的二氧化硅粒子的制备 | 第56-57页 |
3.1.4 表面螯合铁离子的二氧化硅粒子对 DNA 的吸附、脱附行为 | 第57页 |
3.2 结果与讨论 | 第57-65页 |
3.2.1 粒子的表征 | 第57-58页 |
3.2.2 表面螯合铁离子的二氧化硅粒子对 DNA 吸附、脱附的行为 | 第58-61页 |
3.2.3 螯合不同金属离子的二氧化硅粒子对 DNA 的吸附行为 | 第61-63页 |
3.2.4 粒子对蛋白质与 DNA 混合物中 DNA 的选择性吸附行为 | 第63-65页 |
3.3 本章小结 | 第65-67页 |
参考文献 | 第67-69页 |
作者简历 | 第69-71页 |
致谢 | 第71页 |