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电镀锡板的电沉积成核机理及防护技术

摘要第8-10页
ABSTRACT第10-12页
第一章 绪论第17-51页
    1.1 前言第17-18页
    1.2 电镀锡板的发展历程与生产工艺流程第18-19页
        1.2.1 电镀锡板的发展历程第18-19页
        1.2.2 电镀锡板的生产工艺流程第19页
    1.3 锡的基本性质第19-20页
        1.3.1 锡的物理性质第19页
        1.3.2 锡的化学性质第19页
        1.3.3 锡的电化学性质第19-20页
    1.4 锡的电镀工艺第20-26页
        1.4.1 酸性法第21-25页
            1.4.1.1 氟硼酸盐镀锡第21-23页
            1.4.1.2 硫酸盐镀锡第23-24页
            1.4.1.3 有机磺酸盐镀锡第24-25页
        1.4.2 碱性法第25-26页
    1.5 锡的电沉积第26-33页
        1.5.1 影响因素第27-30页
            1.5.1.1 电沉积条件第27-29页
            1.5.1.2 镀液组成第29-30页
        1.5.2 成核机理第30-33页
            1.5.2.1 成核机理的发展历程第30-31页
            1.5.2.2 成核机理的模型第31-33页
            1.5.2.3 锡电沉积的成核机理研究第33页
    1.6 锡镀层的防护技术第33-37页
        1.6.1 软熔第34-35页
        1.6.2 钝化第35-37页
            1.6.2.1 铬酸盐钝化第36页
            1.6.2.2 无铬钝化第36-37页
    1.7 电化学研究技术第37-40页
        1.7.1 电化学极化曲线第37-38页
        1.7.2 计时安培法第38页
        1.7.3 循环伏安法第38-39页
        1.7.4 电化学阻抗技术第39页
        1.7.5 电化学噪声技术第39-40页
    1.8 本课题研究的意义及论文的主要内容第40-41页
    本章参考文献第41-51页
第二章 实验内容与测试方法第51-58页
    2.1 实验试剂和试验仪器第51-52页
        2.1.1 试验用化学试剂和规格第51页
        2.1.2 试验用仪器第51-52页
    2.2 电沉积机理研究第52-54页
        2.2.1 镀液的配制第52-53页
        2.2.2 电极前处理第53页
        2.2.3 电化学测试装置第53页
        2.2.4 测试方法第53-54页
    2.3 软熔工艺研究第54-55页
        2.3.1 前处理第54页
        2.3.2 测试方法第54-55页
    2.4 钝化工艺研究第55-57页
        2.4.1 钝化液的配制第55页
        2.4.2 测试方法第55-57页
    本章参考文献第57-58页
第三章 镀锡板的电沉积机理研究第58-118页
    3.1 引言第58页
    3.2 实验部分第58-60页
        3.2.1 锡电沉积工艺条件优化第59页
        3.2.2 电沉积机理研究第59-60页
    3.3 结果与讨论第60-111页
        3.3.1 不同锡离子浓度的电沉积行为及对镀层耐蚀性能的影响第60-69页
            3.3.1.1 浓度对电沉积行为的影响第60-67页
            3.3.1.2 浓度对锡镀层耐蚀性能的影响第67-68页
            3.3.1.3 浓度对镀层形貌的影响第68-69页
        3.3.2 不同pH值的电沉积行为及对镀层的影响第69-77页
            3.3.2.1 pH值对电沉积行为的影响第69-74页
            3.3.2.2 pH值对镀层耐蚀性能的影响第74-76页
            3.3.2.3 pH值对镀层形貌的影响第76-77页
        3.3.3 不同温度的电沉积行为及对镀层的影响第77-84页
            3.3.3.1 温度对电沉积行为的影响第77-82页
            3.3.3.2 温度对镀层耐蚀性能的影响第82-84页
            3.3.3.3 温度对镀层形貌的影响第84页
        3.3.4 不同恒电位的电沉积行为研究第84-101页
        3.3.5 电沉积行为电化学电位噪声研究第101-111页
    3.4 本章小结第111-112页
    本章参考文献第112-118页
第四章 锡的软熔及钝化行为研究第118-148页
    4.1 引言第118-119页
    4.2 实验部分第119-120页
    4.3 结果与讨论第120-144页
        4.3.1 软熔行为研究第120-133页
            4.3.1.1 脱锡镀锡板的腐蚀电位测量第120-121页
            4.3.1.2 动电位极化曲线的测量第121-122页
            4.3.1.3 电化学阻抗谱测量第122-124页
            4.3.1.4 合金层的形态和组成第124-127页
            4.3.1.5 脱锡镀锡板的AFM形貌第127-128页
            4.3.1.6 脱锡镀锡板和锡之间的偶合电位和电流密度第128-130页
            4.3.1.7 软熔行为讨论第130-133页
        4.3.2 钝化行为研究第133-144页
            4.3.2.1 浓度因素第133-137页
            4.3.2.2 钝化时间因素第137-141页
            4.3.2.3 温度因素第141-144页
    4.4 本章小结第144-145页
    本章参考文献第145-148页
第五章 结论与展望第148-150页
    5.1 结论第148-149页
    5.2 展望第149-150页
附录:攻读博士学位期间发表和待刊的论文第150-151页
致谢第151页

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