| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 铜合金的高强高导化 | 第8-12页 |
| 1.2.1 合金化法 | 第9-10页 |
| 1.2.2 复合材料法 | 第10-12页 |
| 1.3 铜铁合金的研究进展 | 第12-14页 |
| 1.4 激光熔覆铜基合金研究 | 第14-17页 |
| 1.4.1 激光熔覆技术简述 | 第14-16页 |
| 1.4.2 激光熔覆铜合金研究现状 | 第16-17页 |
| 1.5 本文的研究目的及内容 | 第17-18页 |
| 1.6 本章小结 | 第18-19页 |
| 第二章 实验材料与实验设备 | 第19-27页 |
| 2.1 激光熔覆基体材料 | 第19页 |
| 2.2 激光熔覆涂层粉末材料 | 第19-21页 |
| 2.3 激光熔覆粉末的球磨 | 第21-25页 |
| 2.3.1 球磨方法及设备 | 第21-22页 |
| 2.3.2 球磨粉末的宏观与微观形貌 | 第22-25页 |
| 2.4 激光熔覆设备 | 第25-26页 |
| 2.5 本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 激光熔覆铜铁合金涂层工艺研究 | 第27-36页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 激光熔覆球磨铜铁合金工艺参数 | 第27-28页 |
| 3.3 激光熔覆球磨铜铁合金单道涂层宏观形貌 | 第28-32页 |
| 3.3.1 激光功率对单道涂层的宏观尺寸影响 | 第28-30页 |
| 3.3.2 扫描速度对单道涂层的宏观尺寸影响 | 第30-31页 |
| 3.3.3 不同粉末宏观形貌对比 | 第31-32页 |
| 3.4 激光熔覆球磨铜铁合金多道多层涂层宏观形貌 | 第32-33页 |
| 3.5 在黄铜板上激光熔覆铜铁合金工艺及宏观形貌 | 第33-34页 |
| 3.6 本章小结 | 第34-36页 |
| 第四章 激光熔覆铜铁合金微结构特征研究 | 第36-51页 |
| 4.1 引言 | 第36页 |
| 4.2 实验概述 | 第36页 |
| 4.3 中碳钢板上激光熔覆球磨铜铁合金的显微结构 | 第36-45页 |
| 4.3.1 成分对球磨铜铁合金单道涂层微观形貌的影响 | 第36-42页 |
| 4.3.2 激光扫描速度对单道涂层微观形貌的影响 | 第42-44页 |
| 4.3.3 激光功率对单道涂层微观形貌的影响 | 第44-45页 |
| 4.4 激光熔覆未球磨铜铁合金的显微结构 | 第45-47页 |
| 4.5 显微结构分析 | 第47-50页 |
| 4.6 本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 多道多层球磨铜铁合金涂层的性能分析 | 第51-65页 |
| 5.1 引言 | 第51页 |
| 5.2 性能表征 | 第51-53页 |
| 5.2.1 电阻率测试 | 第51-52页 |
| 5.2.2 磁学性能 | 第52页 |
| 5.2.3 显微硬度 | 第52页 |
| 5.2.4 电化学腐蚀 | 第52-53页 |
| 5.3 结果与分析 | 第53-63页 |
| 5.3.1 电阻率 | 第54-56页 |
| 5.3.2 磁滞回线 | 第56-58页 |
| 5.3.3 显微硬度 | 第58-60页 |
| 5.3.4 电化学腐蚀 | 第60-63页 |
| 5.4 本章小结 | 第63-65页 |
| 第六章 总结 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |