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单层二硫化钼金属/半导体相界面结构及力电特性的第一性原理研究

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-7页
1 绪论第10-14页
    1.1 二硫化钼的结构和性质第10-11页
    1.2 二硫化钼的应用第11-13页
    1.3 本文的研究思路第13-14页
2 理论基础知识第14-18页
    2.1 密度泛函理论第14-15页
    2.2 分子动力学第15-16页
    2.3 论文使用软件简介第16-18页
3 1T/2H二硫化钼相界面的结构第18-24页
    3.1 引言第18-19页
    3.2 计算方法第19页
    3.3 二硫化钼相界面的结构第19-21页
    3.4 形成能和稳定性第21-23页
    3.5 结论第23-24页
4 1T/2H二硫化钼相界面的力学性质第24-28页
    4.1 背景简介第24页
    4.2 研究方案和研究方法第24页
    4.3 二硫化钼相界面的力学本征强度第24-26页
    4.4 本章小结第26-28页
5 1T/2H二硫化钼相界面的电子和输运性质第28-38页
    5.1 引言第28页
    5.2 计算方法第28-29页
    5.3 结果与讨论第29-37页
    5.4 结论第37-38页
6 结论与展望第38-40页
    6.1 结论第38页
    6.2 创新要点摘要第38-39页
    6.3 展望第39-40页
致谢第40-42页
参考文献第42-50页
攻读硕士学位期间科研情况第50页

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