| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 超导材料的发展历史 | 第10-11页 |
| 1.2 超导材料的应用 | 第11-12页 |
| 1.3 高温超导带材的发展 | 第12-14页 |
| 1.3.1 Bi系高温超导带材 | 第12-13页 |
| 1.3.2 Y系高温超导带材 | 第13-14页 |
| 1.4 YBCO高温超导带材的制备 | 第14-16页 |
| 1.5 基于IBAD-MgO技术路线制备的第二代高温超导带材 | 第16-19页 |
| 1.5.1 金属基带 | 第17页 |
| 1.5.2 非晶阻挡层 | 第17-18页 |
| 1.5.3 非晶形核层 | 第18页 |
| 1.5.4 织构缓冲层 | 第18-19页 |
| 1.5.5 YBCO高温超导层 | 第19页 |
| 1.6 金属基带的表面处理 | 第19-21页 |
| 1.6.1 机械抛光 | 第20页 |
| 1.6.2 电解抛光 | 第20-21页 |
| 1.6.3 溶液沉积平坦化 | 第21页 |
| 1.7 论文选题依据及结构安排 | 第21-23页 |
| 第二章 实验方法和表征 | 第23-35页 |
| 2.1 实验原理 | 第23-24页 |
| 2.2 实验药品和仪器 | 第24-25页 |
| 2.2.1 实验药品 | 第24页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第24-25页 |
| 2.3 实验设备 | 第25-28页 |
| 2.3.1 金属基带清洗机 | 第25-27页 |
| 2.3.2 多通道SDP卷绕镀膜机 | 第27-28页 |
| 2.4 SDP法制备非晶缓冲层的工艺 | 第28-29页 |
| 2.5 测试仪器 | 第29-35页 |
| 2.5.1 粘度计 | 第30页 |
| 2.5.2 光学显微镜 | 第30-31页 |
| 2.5.3 热重分析仪 | 第31页 |
| 2.5.4 X射线衍射仪 | 第31-32页 |
| 2.5.5 扫描电子显微镜 | 第32-33页 |
| 2.5.6 原子力显微镜 | 第33-35页 |
| 第三章 SDP法生长YBCO超导带材缓冲层研究 | 第35-66页 |
| 3.1 实验设备的改进 | 第36-38页 |
| 3.2 前驱液的选择 | 第38-49页 |
| 3.2.1 变质溶液沉淀分析 | 第39-40页 |
| 3.2.2 溶剂的选择 | 第40-43页 |
| 3.2.3 溶质的选择 | 第43-44页 |
| 3.2.4 添加剂对于前驱液稳定性的影响 | 第44-47页 |
| 3.2.5 添加剂对于缓冲层薄膜的影响 | 第47-49页 |
| 3.3 SDP法生长非晶氧化物薄膜工艺研究 | 第49-60页 |
| 3.3.1 溶液添加剂比例对非晶氧化物薄膜的影响 | 第49-53页 |
| 3.3.2 前驱液浓度对非晶氧化物薄膜的影响 | 第53-57页 |
| 3.3.3 快速热处理温度对非晶氧化物薄膜的影响 | 第57-59页 |
| 3.3.4 设备对非晶氧化物层的影响 | 第59-60页 |
| 3.4 SDP法制备缓冲层长带材的应用 | 第60-65页 |
| 3.4.1 百米长带材非晶缓冲层均匀性表征 | 第61-62页 |
| 3.4.2 SDP法-非晶缓冲层基带的后续制备结果 | 第62-64页 |
| 3.4.3 SDP法-非晶氧化物基带的其它应用 | 第64-65页 |
| 3.5 本章小结 | 第65-66页 |
| 第四章 SDP法边缘开裂的处理方法 | 第66-72页 |
| 4.1 短带材的边缘效应处理 | 第66-67页 |
| 4.2 溶液张力对边缘效应的影响 | 第67-69页 |
| 4.3 高速提拉沉积SDP非晶氧化物薄膜 | 第69-70页 |
| 4.4 本章小结 | 第70-72页 |
| 第五章 结论与展望 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 攻读硕士士学位期间取得的成果 | 第79-80页 |