首页--工业技术论文--化学工业论文--电化学工业论文--电镀工业论文

配位剂对三价铬溶液性能的影响

摘要第6-8页
Abstract第8-9页
第1章 绪论第13-27页
    1.1 课题研究背景第13页
    1.2 国内外研究现状第13-18页
        1.2.1 国内外三价铬电镀的研究第13-16页
        1.2.2 国内外三价铬钝化的研究第16-18页
    1.3 三价铬电镀第18-23页
        1.3.1 镀液组成第18-19页
        1.3.2 三价铬镀铬的阳极第19-20页
        1.3.3 三价铬电镀机理第20-21页
        1.3.4 三价铬电镀分类第21-22页
        1.3.5 三价铬电镀存在的问题第22-23页
    1.4 三价铬钝化第23-26页
        1.4.1 钝化液组成第23页
        1.4.2 三价铬钝化机理第23-24页
        1.4.3 三价铬钝化分类第24-25页
        1.4.4 三价铬钝化存在的问题第25-26页
    1.5 主要研究内容第26-27页
        1.5.1 配位剂对三价铬镀液的影响第26页
        1.5.2 配位剂对三价铬钝化液的影响第26-27页
第2章 试验药品、仪器及测试方法第27-31页
    2.1 实验药品第27-28页
    2.2 实验设备与仪器第28页
    2.3 测试方法第28-31页
        2.3.1 赫尔槽实验第28页
        2.3.2 电化学测试第28-29页
        2.3.3 配位能力的测试第29页
        2.3.4 稳定常数的测定第29-30页
        2.3.5 钝化膜的耐蚀性的测试第30-31页
第3章 含氮类配位剂对三价铬镀液性能的影响第31-41页
    3.1 配位剂的分类及选择第31-33页
    3.2 溶液的配制第33页
        3.2.1 三价铬配位溶液的配制第33页
    3.3 结果与讨论第33-40页
        3.3.1 三价铬镀铬阴极反应历程第33-36页
        3.3.2 阴极极化曲线第36-38页
        3.3.3 UV-vis谱图第38-40页
    3.4 本章小结第40-41页
第4章 羧酸类配位剂对三价铬镀液性能的影响第41-52页
    4.1 配位剂的选择第41页
    4.2 溶液的配制第41页
        4.2.1 三价铬配位溶液的配制第41页
        4.2.2 三价铬稀释液的配制第41页
    4.3 结果与讨论第41-51页
        4.3.1 阴极极化曲线第41-43页
        4.3.2 UV-vis谱图第43-45页
        4.3.3 配合物的稳定常数第45-48页
        4.3.4 配位溶液的表观活化能第48-51页
    4.4 本章小结第51-52页
第5章 柠檬酸钠体系三价铬镀液的研究第52-63页
    5.1 时间-电位曲线(E-t)第52-54页
    5.2 阴极极化曲线第54-56页
    5.3 交流阻抗(EIS)第56-59页
    5.4 赫尔槽实验第59-61页
    5.5 本章小结第61-63页
第6章 配位剂对三价铬钝化液的影响第63-78页
    6.1 配位剂的选择第63-64页
    6.2 钝化液的配制第64页
    6.3 结果与讨论第64-77页
        6.3.1 时间-电位曲线(E-t)第64-66页
        6.3.2 交流阻抗(EIS)第66-68页
        6.3.3 塔菲尔(Tafel)曲线第68-70页
        6.3.4 盐雾实验结果第70-71页
        6.3.5 氯离子对柠檬酸体系钝化液的影响第71-73页
        6.3.6 柠檬酸体系钝化膜的激光共聚焦图第73-77页
    6.4 本章小结第77-78页
结论第78-80页
参考文献第80-86页
攻读硕士学位期间所发表的学术论文第86-87页
致谢第87-88页

论文共88页,点击 下载论文
上一篇:InGaN纳米材料的制备及其发光特性的研究
下一篇:石墨烯基半导体纳米复合材料的制备及其光催化性能研究