车顶绝缘子制造中的数值模拟与结构优化研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第14-31页 |
| 1.1 前言 | 第14-15页 |
| 1.2 车顶绝缘子的污闪 | 第15-24页 |
| 1.2.1 车顶绝缘子的污闪特性 | 第15-17页 |
| 1.2.2 车顶绝缘子的积污研究 | 第17-18页 |
| 1.2.3 车顶绝缘子的电场分布 | 第18-21页 |
| 1.2.4 车顶绝缘子的气流场分布 | 第21-22页 |
| 1.2.5 车顶绝缘子防污闪措施 | 第22-24页 |
| 1.3 车顶绝缘子的烧成及显微结构 | 第24-28页 |
| 1.3.1 瓷坯的显微结构特征 | 第24-26页 |
| 1.3.2 瓷坯显微结构与强度的关系 | 第26-27页 |
| 1.3.3 瓷坯的烧成过程 | 第27-28页 |
| 1.3.4 瓷坯烧成过程中的显微结构转变 | 第28页 |
| 1.3.5 电瓷烧成的数值模拟研究 | 第28页 |
| 1.4 本文研究目的及内容 | 第28-31页 |
| 1.4.1 选题目的 | 第28-29页 |
| 1.4.2 本文研究内容 | 第29-31页 |
| 第2章 研究过程及方法 | 第31-38页 |
| 2.1 研究路线及方案 | 第31-32页 |
| 2.1.1 研究路线 | 第31页 |
| 2.1.2 研究方案 | 第31-32页 |
| 2.2 工作内容及方法 | 第32-38页 |
| 2.2.1 现场调研 | 第32页 |
| 2.2.2 显微结构分析 | 第32-33页 |
| 2.2.3 气孔率测量 | 第33-34页 |
| 2.2.4 数值模拟计算 | 第34-38页 |
| 第3章 车顶绝缘子伞裙结构对其电场分布的影响 | 第38-50页 |
| 3.1 引言 | 第38页 |
| 3.2 电场有限元计算方法 | 第38-42页 |
| 3.2.1 麦克斯韦方程 | 第38-39页 |
| 3.2.2 电磁场微分方程的一般形式 | 第39-40页 |
| 3.2.3 电磁场中常见边界条件 | 第40-41页 |
| 3.2.4 静电场的有限元解法 | 第41-42页 |
| 3.3 模拟计算过程控制 | 第42-44页 |
| 3.3.1 模型建立 | 第42-44页 |
| 3.3.2 求解参数及边界条件 | 第44页 |
| 3.4 伞裙结构的电场优化 | 第44-49页 |
| 3.4.1 伞裙分布类型对电场分布的影响 | 第44-46页 |
| 3.4.2 伞上下两面的倾角对电场分布的影响 | 第46-48页 |
| 3.4.3 伞间距对电场分布的影响 | 第48-49页 |
| 3.5 本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 半导体涂层对车顶绝缘子电场分布的影响 | 第50-56页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 模型及边界条件 | 第50-51页 |
| 4.2.1 模型建立 | 第50-51页 |
| 4.2.2 边界条件 | 第51页 |
| 4.3 半导体涂层对电场分布的影响 | 第51-55页 |
| 4.3.1 半导体涂层位置对电场分布的影响 | 第51-53页 |
| 4.3.2 半导体涂层电学参数对电场分布的影响 | 第53-55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 第5章 车顶绝缘子气流场的分布及其对积污的影响 | 第56-71页 |
| 5.1 引言 | 第56页 |
| 5.2 气流场数值计算方法 | 第56-63页 |
| 5.3 车顶绝缘子气流场模拟控制方程 | 第63-65页 |
| 5.3.1 空气连续相控制方程 | 第63页 |
| 5.3.2 粒子离散相控制方程 | 第63-64页 |
| 5.3.3 边界条件及计算参数 | 第64-65页 |
| 5.4 分析计算过程控制 | 第65-66页 |
| 5.4.1 模型建立 | 第65-66页 |
| 5.4.2 网格划分 | 第66页 |
| 5.4.3 计算求解及后处理 | 第66页 |
| 5.5 数值计算及实测结果分析 | 第66-70页 |
| 5.5.1 车顶绝缘子周围气流场分布情况 | 第66-69页 |
| 5.5.2 车顶绝缘子表面颗粒碰撞情况 | 第69-70页 |
| 5.5.3 车顶绝缘子实测染污情况 | 第70页 |
| 5.6 本章小结 | 第70-71页 |
| 第6章 车顶绝缘子结构优化及防污特征分析 | 第71-77页 |
| 6.1 引言 | 第71页 |
| 6.2 边界条件及计算参数 | 第71-72页 |
| 6.3 杆径截面形状的优化设计 | 第72-76页 |
| 6.3.1 杆径截面形状对气流场分布的影响 | 第72-73页 |
| 6.3.2 长短轴比例的选取 | 第73-74页 |
| 6.3.3 两种绝缘子的气流场分布比较 | 第74-76页 |
| 6.4 本章小结 | 第76-77页 |
| 第7章 电瓷烧成工艺优化 | 第77-87页 |
| 7.1 引言 | 第77页 |
| 7.2 失效电瓷显微结构特征 | 第77-78页 |
| 7.3 电瓷烧成过程的理论模拟计算 | 第78-86页 |
| 7.3.1 热力学数值计算方法 | 第78-79页 |
| 7.3.2 有限元计算参数的选择 | 第79-80页 |
| 7.3.3 模拟计算结果及分析 | 第80-86页 |
| 7.4 本章小结 | 第86-87页 |
| 第8章 电瓷真气孔率的测量 | 第87-92页 |
| 8.1 引言 | 第87页 |
| 8.2 实验原理及方法 | 第87-89页 |
| 8.2.1 实验原理 | 第87-88页 |
| 8.2.2 样品制备 | 第88页 |
| 8.2.3 实验方法 | 第88-89页 |
| 8.3 结果分析及讨论 | 第89-90页 |
| 8.4 本章小结 | 第90-92页 |
| 结论 | 第92-94页 |
| 参考文献 | 第94-101页 |
| 致谢 | 第101-102页 |
| 附录A 攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第102-103页 |
| 附录B 攻读硕士学位期间参与的科研项目 | 第103页 |
