| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 序言 | 第9-12页 |
| 1 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 氧化锌(ZNO)概述 | 第12-15页 |
| 1.1.1 ZnO的基本性质 | 第12-14页 |
| 1.1.2 ZnO的应用 | 第14-15页 |
| 1.2 原子层沉积(ALD) | 第15-23页 |
| 1.2.1 ALD技术的原理 | 第15-16页 |
| 1.2.2 ALD技术的特点及优势 | 第16-19页 |
| 1.2.3 ALD技术的难点 | 第19-23页 |
| 1.3 本文的主要研究内容及研究意义 | 第23-24页 |
| 1.3.1 主要研究内容 | 第23页 |
| 1.3.2 研究意义 | 第23-24页 |
| 2 热型ALD技术制备ZNO薄膜性能的研究 | 第24-38页 |
| 2.1 研究锌源脉冲时间对制备ZNO薄膜性能的影响 | 第24-33页 |
| 2.1.1 实验部分 | 第24-27页 |
| 2.1.2 测试结果及分析 | 第27-33页 |
| 2.2 研究生长的循环周期数对制备ZNO薄膜性能的影响 | 第33-38页 |
| 2.2.1 实验部分 | 第33页 |
| 2.2.2 测试结果及分析 | 第33-38页 |
| 3 可变电场调制的原子层沉积技术(E-PEALD) | 第38-48页 |
| 3.1 E-PEALD技术设计思想 | 第38-40页 |
| 3.2 E-PEALD技术对反应物的作用模式分析 | 第40-44页 |
| 3.2.1 E-PEALD技术对极性反应源分子的作用 | 第40-42页 |
| 3.2.2 E-PEALD技术对简单气体分子等离子体源的作用 | 第42-43页 |
| 3.2.3 E-PEALD技术对金属有机源等离子体的作用 | 第43-44页 |
| 3.3 E-PEALD系统装备设计 | 第44-48页 |
| 4 E-PEALD技术制备ZNO薄膜性能的研究 | 第48-56页 |
| 4.1 研究不同电场方向对制备ZNO薄膜性能的影响 | 第48-53页 |
| 4.1.1 实验部分 | 第48-50页 |
| 4.1.2 测试结果及分析 | 第50-53页 |
| 4.2 研究不同电场强度对制备ZNO薄膜的影响 | 第53-56页 |
| 4.2.1 实验部分 | 第53-54页 |
| 4.2.2 测试结果及分析 | 第54-56页 |
| 5 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 作者简历及攻读硕士/博士学位期间取得的研究成果 | 第60-62页 |
| 学位论文数据集 | 第62页 |
