| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-27页 |
| 1.1 表面工程技术 | 第9-10页 |
| 1.2 物理气相沉积技术 | 第10-12页 |
| 1.2.1 物理气相沉积分类 | 第10-11页 |
| 1.2.2 物理气相沉积的特点及应用 | 第11-12页 |
| 1.3 溅射镀膜 | 第12-17页 |
| 1.3.1 溅射的过程 | 第12-14页 |
| 1.3.2 溅射沉积成膜过程 | 第14-16页 |
| 1.3.3 溅射镀膜技术 | 第16-17页 |
| 1.3.4 溅射镀膜的特点及应用 | 第17页 |
| 1.4 中频非平衡磁控溅射离子镀膜技术 | 第17-19页 |
| 1.5 TiAlN薄膜 | 第19-25页 |
| 1.5.1 TiAlN的历史 | 第19-20页 |
| 1.5.2 TiAlN的特点及应用 | 第20页 |
| 1.5.3 TiAlN的晶体结构 | 第20-21页 |
| 1.5.4 TiAlN薄膜的制备方法 | 第21-24页 |
| 1.5.5 TiAlN薄膜的研究现状及发展趋势 | 第24-25页 |
| 1.6 本课题研究的目的及意义 | 第25页 |
| 1.7 本课题研究的主要内容及技术路线 | 第25-27页 |
| 2 实验材料与测试方法 | 第27-35页 |
| 2.1 实验材料 | 第27页 |
| 2.2 实验设备 | 第27-28页 |
| 2.3 制备TiAlN薄膜的工艺流程 | 第28页 |
| 2.4 检测方法 | 第28-35页 |
| 2.4.1 薄膜显微硬度测试 | 第28-29页 |
| 2.4.2 薄膜厚度测试 | 第29-30页 |
| 2.4.3 膜-基结合力测试 | 第30-31页 |
| 2.4.4 金相显微镜 | 第31页 |
| 2.4.5 X射线衍射分析仪 | 第31-32页 |
| 2.4.6 扫描电子显微镜（SEM）及能谱仪（EDS） | 第32-35页 |
| 3 TiAlN薄膜的制备及力学性能分析 | 第35-50页 |
| 3.1 试验参数设计 | 第35-36页 |
| 3.2 TiAlN涂层硬度试验结果分析 | 第36-38页 |
| 3.3 各工艺参数对TiAlN涂层硬度的影响 | 第38-42页 |
| 3.3.1 离化功率对TiAlN薄膜硬度的影响 | 第38-39页 |
| 3.3.2 直流偏压对TiAlN薄膜硬度的影响 | 第39-40页 |
| 3.3.3 溅射功率对TiAlN薄膜硬度的影响 | 第40-41页 |
| 3.3.4 沉积时间对TiAlN薄膜硬度的影响 | 第41-42页 |
| 3.4 TiAlN涂层膜基结合力试验结果分析 | 第42-45页 |
| 3.5 各工艺参数对TiAlN涂层膜基结合力的影响 | 第45-49页 |
| 3.5.1 离化功率对镀层膜基结合力的影响 | 第45-46页 |
| 3.5.2 直流偏压对镀层膜基结合力的影响 | 第46-47页 |
| 3.5.3 溅射功率对镀层膜基结合力的影响 | 第47-48页 |
| 3.5.4 沉积时间对镀层膜基结合力的影响 | 第48-49页 |
| 3.6 确定最佳工艺参数 | 第49页 |
| 3.7 本章小结 | 第49-50页 |
| 4 TiAlN薄膜形貌及物相分析 | 第50-59页 |
| 4.1 TiAlN涂层断口形貌分析 | 第50-51页 |
| 4.2 TiAlN涂层能谱及XRD分析 | 第51-58页 |
| 4.2.1 TiAlN涂层能谱分析 | 第51-54页 |
| 4.2.2 TiAlN薄膜物相结构分析 | 第54-58页 |
| 4.3 本章小结 | 第58-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文及科研成果 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |