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氧化锌薄膜的制备及性能研究

第一章 绪论第9-26页
    1.1 引言第9-10页
    1.2 ZnO 薄膜的结构特性第10-11页
    1.3 ZnO 薄膜的光电特性第11-12页
    1.4 ZnO 薄膜的发光机理第12-13页
        1.4.1 绿光的发光机制第12-13页
        1.4.2 其他光的发光机制第13页
    1.5 ZnO 薄膜的研究现状第13-15页
        1.5.1 ZnO 的p 型掺杂和PN 结的制作第14页
        1.5.2 缺陷行为和载流子输运特性的研究第14页
        1.5.3 利用ZnO 制作紫外半导体激光器第14-15页
        1.5.4 高质量ZnO 薄膜的生长和现有器件的改进第15页
    1.6 ZnO 薄膜的制备方法第15-17页
        1.6.2 分子束外延(MBE)第16页
        1.6.3 金属有机物汽相外延(MOCVD)第16页
        1.6.4 锌膜氧化法第16-17页
    1.7 ZnO 薄膜的应用研究进展第17-20页
        1.7.1 制作紫外光探测器第17页
        1.7.2 可与GaN 互作缓冲层第17-18页
        1.7.3 用于光电器件的单片集成第18页
        1.7.4 制作表面声波器件第18-20页
    1.8 PLD 技术的应用研究进展第20-25页
        1.8.1 PLD(Pulsed Laser Deposition)技术发展历史第20-21页
        1.8.2 PLD 技术的基本原理及物理过程第21-24页
            1.8.2.1 激光与靶相互作用及等离子体的气化、产生及膨胀第22-23页
            1.8.2.2 激光等离子体与基片表面的相互作用第23-24页
            1.8.2.3 在衬底表面凝结成膜第24页
        1.8.3 PLD 技术的特点第24-25页
            1.8.3.1 PLD 技术的优点第24-25页
            1.8.3.2 PLD 技术的缺点第25页
    1.9 本文研究的目的及内容第25-26页
第二章 实验方法及工艺研究第26-31页
    2.1 实验材料第26页
    2.2 实验设备第26-27页
    2.3 实验方案第27-29页
        2.3.1 采用Zn 靶,以Si(111)为衬底在通氧的情况下用PLD 法制取ZnO膜第27-28页
        2.3.2 采用Zn 靶,以石英玻璃为衬底用PLD 方法制取Zn 薄膜,然后通氧氧化制取ZnO 薄膜第28页
        2.3.3 采用 Zn 靶,以石英玻璃为衬底在通氧的情况下用 PLD 法制取ZnO 膜第28-29页
    2.4 微观组织、结构和发光性能的表征第29页
    2.5 工艺性研究第29-31页
第三章 在Si 基体上脉冲激光沉积ZnO 薄膜组织结构及发光性能第31-60页
    3.1 引言第31-32页
    3.2 激光能量密度对ZnO 薄膜形成的影响第32-37页
        3.2.1 激光能量密度对ZnO 薄膜结构(XRD)的影响第32-34页
        3.2.2 激光能量密度对ZnO 薄膜组织(SEM)的影响第34-37页
    3.3 氧气压力对ZnO 薄膜形成的影响第37-47页
        3.3.1 氧气压力对ZnO 薄膜结构(XRD)的影响第37-39页
        3.3.2 氧气压力对ZnO 薄膜组织(SEM)的影响第39-42页
        3.3.3 氧气压力对ZnO 薄膜photoluminescence(PL)的影响第42-47页
    3.4 基体温度对ZnO 薄膜形成的影响第47-58页
        3.4.1 基体温度对ZnO 薄膜结构(XRD)的影响第47-49页
        3.4.2 基体温度对ZnO 薄膜组织的影响第49-56页
        3.4.3 基体温度对ZnO 薄膜photoluminescence(PL)的影响第56-58页
    3.5 本章小结第58-60页
第四章 石英玻璃基体上脉冲激光沉积ZnO 薄膜组织结构及发光性能第60-71页
    4.1 引言第60页
    4.2 基体温度对ZnO 薄膜形成的影响第60-70页
        4.2.1 基体温度对ZnO 薄膜组织结构的影响第60-64页
        4.2.2 基体温度对ZnO 薄膜发光性能的影响第64-67页
        4.2.3 基体温度对ZnO 薄膜透光率和吸光度的影响第67-70页
    4.3 本章小结第70-71页
第五章 金属锌膜退火氧化制备的ZnO 薄膜组织结构及发光性能第71-83页
    5.1 引言第71页
    5.2 氧气压力对锌膜退火氧化制备的ZnO 薄膜的影响第71-77页
        5.2.1 氧气压力对ZnO 薄膜结构(XRD)的影响第71-73页
        5.2.2 氧气压力对ZnO 薄膜photoluminescence(PL)的影响第73-77页
    5.3 退火温度对锌膜退火氧化制备的ZnO 薄膜的影响第77-82页
        5.3.1 退火温度对ZnO 薄膜组织结构的影响第77-80页
        5.3.2 退火温度对ZnO 薄膜photoluminescence(PL)的影响第80-82页
    5.4 本章小结第82-83页
第六章 结论第83-85页
参考文献第85-97页
攻读博士学位期间发表的论文第97-98页
致谢第98-99页
摘要第99-102页
Abstract第102页

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