| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-21页 |
| 1.1 课题来源 | 第13页 |
| 1.2 课题研究背景及意义 | 第13-20页 |
| 1.2.1 激光反射镜的应用背景 | 第13-14页 |
| 1.2.2 Si C反射镜基材特性及研究背景 | 第14-16页 |
| 1.2.3 光学高反膜的概述和国内外研究进展 | 第16-18页 |
| 1.2.4 Hf O_2和Hf O_2/Si O_2薄膜的研究发展现状 | 第18-20页 |
| 1.3 本课题的主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第二章 相关理论 | 第21-35页 |
| 2.1 薄膜沉积技术 | 第21-22页 |
| 2.2 Si C表面Si改性层的设计原理 | 第22-25页 |
| 2.3 高反膜系理论设计基础 | 第25-30页 |
| 2.3.1 麦克斯韦方程组及波动方程 | 第25-27页 |
| 2.3.2 单层介质薄膜 | 第27-29页 |
| 2.3.3 多层介质薄膜 | 第29-30页 |
| 2.4 薄膜的激光损伤性能研究 | 第30-35页 |
| 2.4.1 激光损伤机制 | 第30-31页 |
| 2.4.2 激光损伤特点 | 第31-32页 |
| 2.4.3 抗激光损伤性能的提高 | 第32页 |
| 2.4.4 激光损伤阈值测试方法 | 第32-34页 |
| 2.4.5 激光损伤判断 | 第34-35页 |
| 第三章 实验方法及性能表征 | 第35-42页 |
| 3.1 实验方法 | 第35-40页 |
| 3.1.1 Si C镜坯的制备、加工和清洁 | 第35-37页 |
| 3.1.2 薄膜沉积方法 | 第37-40页 |
| 3.1.2.1 Si C表面Si改性层的制备 | 第38-39页 |
| 3.1.2.2 Hf O_2和Hf O_2/Si O_2膜的研究方法 | 第39-40页 |
| 3.2 性能表征 | 第40-42页 |
| 3.2.1 薄膜成分分析 | 第40页 |
| 3.2.2 薄膜光学特性分析 | 第40页 |
| 3.2.3 薄膜表面组织形貌和微观结构分析 | 第40页 |
| 3.2.4 薄膜残余应力分析 | 第40-41页 |
| 3.2.5 薄膜激光损伤研究 | 第41-42页 |
| 第四章 Hf O_2单层激光薄膜的研究结果 | 第42-66页 |
| 4.1 Hf O_2薄膜化学配比及残余应力的调控优化 | 第42-53页 |
| 4.1.1 Hf O_2薄膜的表面质量和结合情况 | 第43-44页 |
| 4.1.2 Hf O_2薄膜化学配比的调控 | 第44-49页 |
| 4.1.3 Hf O_2薄膜残余应力的调控 | 第49-51页 |
| 4.1.4 Hf O_2薄膜的优化结果 | 第51-53页 |
| 4.1.5 小结 | 第53页 |
| 4.2 Hf O_2薄膜的激光损伤特征研究 | 第53-56页 |
| 4.2.1 Hf O_2优化薄膜的激光损伤阈值 | 第53-55页 |
| 4.2.2 Hf O_2薄膜的激光损伤特性分析 | 第55-56页 |
| 4.3 离子源偏压对Hf O_2薄膜微观结构及LIDT的影响 | 第56-62页 |
| 4.3.1 Hf O_2薄膜的组分分析 | 第57-58页 |
| 4.3.2 Hf O_2薄膜的光学特性分析 | 第58-59页 |
| 4.3.3 Hf O_2薄膜的残余应力分析 | 第59页 |
| 4.3.4 离子源偏压对Hf O_2薄膜微观结构的影响 | 第59-61页 |
| 4.3.5 不同偏压下Hf O_2薄膜的激光损伤阈值 | 第61-62页 |
| 4.4 Hf O_2薄膜抗激光损伤性能LIDT的进一步优化 | 第62-64页 |
| 4.4.1 Hf O_2薄膜的XRD图 | 第63-64页 |
| 4.4.2 Hf O_2薄膜的表面组织形貌图 | 第64页 |
| 4.5 本章小结 | 第64-66页 |
| 第五章 Si C镜面上多层激光高反膜的制备 | 第66-79页 |
| 5.1 Hf O_2/Si O_2激光高反膜的制备 | 第66-72页 |
| 5.1.1 Hf O_2/Si O_2膜的结合情况 | 第66-67页 |
| 5.1.2 Hf O_2/Si O_2膜的内应力解构分析 | 第67-68页 |
| 5.1.3 Hf O_2/Si O_2膜的表面质量 | 第68页 |
| 5.1.4 Hf O_2/Si O_2膜的微观结构 | 第68-69页 |
| 5.1.5 Hf O_2/Si O_2膜的光学特性 | 第69-70页 |
| 5.1.6 Hf O_2/Si O_2膜的激光损伤特性 | 第70-72页 |
| 5.2 Nb_2O_5/Si O_2激光高反膜的制备 | 第72-78页 |
| 5.2.1 Nb_2O_5/Si O_2薄膜的表面质量 | 第74-76页 |
| 5.2.2 Nb_2O_5/Si O_2薄膜的光学特性 | 第76-77页 |
| 5.2.3 Nb_2O_5/Si O_2薄膜的激光损伤特性 | 第77-78页 |
| 5.3 本章小结 | 第78-79页 |
| 第六章 结论与展望 | 第79-81页 |
| 6.1 结论 | 第79-80页 |
| 6.2 展望 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-86页 |
| 作者在攻读硕士学位期间公开发表的论文 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87页 |
