高压下InAs的电学性质研究
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第15-30页 |
| 1.1 高压物理学简介 | 第15-17页 |
| 1.2 高压实验装置与技术 | 第17-23页 |
| 1.2.1 高压装置-金刚石对顶砧(DAC) | 第17-18页 |
| 1.2.2 DAC压砧固定 | 第18-20页 |
| 1.2.3 压机对中调平 | 第20-21页 |
| 1.2.4 高压实验表征手段 | 第21-23页 |
| 1.3 高压电学研究现状 | 第23-26页 |
| 1.4 论文选题的目的和意义 | 第26-30页 |
| 第二章 高压电学测量实验技术 | 第30-42页 |
| 2.1 高压电学测量准备 | 第30-35页 |
| 2.1.1 测量微电路制备 | 第30-33页 |
| 2.1.2 绝缘垫片制作 | 第33-34页 |
| 2.1.3 样品封装与压力标定 | 第34-35页 |
| 2.2 高压原位电阻率测量方法 | 第35-37页 |
| 2.3 高压变温电阻率测量方法 | 第37-42页 |
| 2.3.1 K型热电偶的制作 | 第37页 |
| 2.3.2 测量原理与方法 | 第37-38页 |
| 2.3.3 手工布线操作 | 第38-40页 |
| 2.3.4 高压霍尔效应测量方法 | 第40-42页 |
| 第三章 高压下InAs电学性质的研究 | 第42-52页 |
| 3.1 常压下InAs样品XRD | 第42-43页 |
| 3.2 InAs的高压原位电阻率研究 | 第43-44页 |
| 3.3 InAs的高压变温电阻率的研究 | 第44-48页 |
| 3.4 InAs的高压霍尔效应测量 | 第48-52页 |
| 第四章 InAs的第一性原理计算 | 第52-56页 |
| 4.1 InAs的焓和体积的计算 | 第52-53页 |
| 4.2 InAs能带结构的计算 | 第53-56页 |
| 第五章 结论与展望 | 第56-59页 |
| 5.1 结论 | 第56-58页 |
| 5.2 展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-66页 |
| 致谢 | 第66-68页 |
| 附录 (攻读硕士学位期间发表论文目录) | 第68页 |
