| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 碳化硅材料简介 | 第9-11页 |
| 1.2 碳化硅功率PiN二极管的发展和研究意义 | 第11-14页 |
| 1.3 本文的主要工作 | 第14-16页 |
| 第二章 PiN二极管理论基础 | 第16-25页 |
| 2.1 PiN二极管的正向导通特性 | 第16-19页 |
| 2.2 PiN二极管的反向阻断特性 | 第19-21页 |
| 2.3 PiN二极管的动态特性 | 第21-24页 |
| 2.3.1 正向恢复特性 | 第21-22页 |
| 2.3.2 反向恢复特性 | 第22-24页 |
| 2.4 本章小结 | 第24-25页 |
| 第三章 高压SiC PiN二极管设计与仿真 | 第25-38页 |
| 3.1 高压SiC PiN二极管结构设计 | 第25-30页 |
| 3.1.1 元胞的设计与仿真 | 第25-27页 |
| 3.1.2 终端的设计与仿真 | 第27-30页 |
| 3.2 SiC PiN二极管的动态特性仿真 | 第30-32页 |
| 3.3 SiC材料载流子寿命研究 | 第32-37页 |
| 3.3.1 SiC材料中的深能级中心 | 第32-35页 |
| 3.3.2 SiC材料的载流子寿命对正向导通的影响 | 第35-37页 |
| 3.4 本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 高压SiC PiN二极管的关键工艺研究 | 第38-60页 |
| 4.1 刻蚀工艺 | 第38-48页 |
| 4.2 金属化工艺 | 第48-58页 |
| 4.3 本章小结 | 第58-60页 |
| 第五章 高压SiC PiN二极管的实验研究 | 第60-65页 |
| 5.1 高压SiC PiN二极管的流片工艺流程 | 第60-61页 |
| 5.2 实验测试结果与分析 | 第61-64页 |
| 5.3 本章小结 | 第64-65页 |
| 第六章 总结与展望 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第72-73页 |