| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-28页 |
| 1.1 前言 | 第10页 |
| 1.2 金刚石的结构 | 第10-12页 |
| 1.3 金刚石膜的沉积机理 | 第12-14页 |
| 1.4 超纳米金刚石膜的性质与应用 | 第14-21页 |
| 1.4.1 超纳米金刚石膜的性质 | 第14-15页 |
| 1.4.2 超纳米金刚石膜的应用 | 第15-21页 |
| 1.5 超纳米金刚石薄膜的制备方法 | 第21-26页 |
| 1.5.1 热丝化学气相沉积法 | 第21-22页 |
| 1.5.2 直流电弧等离子体喷射化学气相沉积法 | 第22-24页 |
| 1.5.3 微波等离子体化学气相沉积法 | 第24-25页 |
| 1.5.4 直流辉光放电等离子体化学气相沉积法 | 第25-26页 |
| 1.6 选题意义及研究内容 | 第26-28页 |
| 第2章 实验装置及表征手段 | 第28-38页 |
| 2.1 直流辉光放电等离子体CVD装置 | 第28-29页 |
| 2.2 直流辉光放电等离子体原理 | 第29-32页 |
| 2.3 微波等离子体CVD装置及原理 | 第32-33页 |
| 2.4 超纳米金刚石膜的表征 | 第33-38页 |
| 2.4.1 场发射扫描电子显微镜 | 第33-34页 |
| 2.4.2 激光拉曼光谱仪 | 第34-35页 |
| 2.4.3 X射线衍射仪 | 第35页 |
| 2.4.4 原子力显微镜 | 第35-36页 |
| 2.4.5 透射电子显微镜 | 第36-38页 |
| 第3章 超纳米金刚石膜的制备工艺研究 | 第38-60页 |
| 3.1 预处理对金刚石膜形核的影响 | 第38-47页 |
| 3.1.1 研磨程度对超纳米金刚石膜形核的影响 | 第38-41页 |
| 3.1.2 混合CVD法对超纳米金刚石膜形核的影响 | 第41-47页 |
| 3.2 甲烷浓度对膜层生长的影响 | 第47-51页 |
| 3.3 衬底温度对膜层生长的影响 | 第51-54页 |
| 3.4 沉积气压对膜层生长的影响 | 第54-58页 |
| 3.5 本章小结 | 第58-60页 |
| 第4章 超纳米金刚石膜的制备 | 第60-76页 |
| 4.1 长时间沉积的影响因素和解决办法 | 第60-67页 |
| 4.1.1 气流场的影响及改进 | 第61-64页 |
| 4.1.2 阴极放电状态的影响及改进 | 第64-67页 |
| 4.2 超纳米金刚石膜的制备结果 | 第67-76页 |
| 4.2.1 超纳米金刚石膜外观 | 第68页 |
| 4.2.2 扫描电子显微镜测试结果 | 第68-70页 |
| 4.2.3 原子力显微镜测试结果 | 第70-71页 |
| 4.2.4 激光拉曼光谱仪测试结果 | 第71-72页 |
| 4.2.5 X射线衍射仪测试结果 | 第72-73页 |
| 4.2.6 透射电子显微镜测试结果 | 第73-76页 |
| 第5章 全文总结与展望 | 第76-80页 |
| 5.1 总结 | 第76-77页 |
| 5.2 展望 | 第77-80页 |
| 参考文献 | 第80-88页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第88-90页 |
| 致谢 | 第90页 |