镁合金表面磁控溅射Al膜的制备工艺及组织性能研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 镁合金的特点及应用 | 第8-9页 |
| 1.1.1 镁及镁合金 | 第8页 |
| 1.1.2 镁合金的性质 | 第8页 |
| 1.1.3 镁合金的应用 | 第8-9页 |
| 1.2 镁合金的腐蚀 | 第9-10页 |
| 1.2.1 镁及镁合金的腐蚀特性 | 第9-10页 |
| 1.2.2 镁合金的基本腐蚀类型 | 第10页 |
| 1.3 镁合金的表面改性处理 | 第10-12页 |
| 1.3.1 化学转化 | 第10-11页 |
| 1.3.2 阳极氧化 | 第11页 |
| 1.3.3 微弧氧化 | 第11页 |
| 1.3.4 溶胶凝胶技术 | 第11页 |
| 1.3.5 电镀和化学镀 | 第11-12页 |
| 1.3.6 气相沉积 | 第12页 |
| 1.4 磁控溅射技术 | 第12-14页 |
| 1.4.1 磁控溅射原理 | 第12-13页 |
| 1.4.2 磁控溅射种类 | 第13-14页 |
| 1.4.3 磁控溅射特点 | 第14页 |
| 1.5 镁合金表面磁控溅射膜层 | 第14-17页 |
| 1.5.1 镁合金表面磁控溅射膜层研究 | 第14-15页 |
| 1.5.2 镁合金表面磁控溅射铝膜 | 第15页 |
| 1.5.3 镁合金表面磁控溅射铝膜的研究现状 | 第15-17页 |
| 1.6 本论文的研究内容及意义 | 第17-18页 |
| 第二章 实验材料及方法 | 第18-22页 |
| 2.1 实验材料 | 第18-19页 |
| 2.1.1 主要实验材料 | 第18页 |
| 2.1.2 辅助实验材料 | 第18-19页 |
| 2.2 试验设备 | 第19-20页 |
| 2.2.1 磁控溅射设备 | 第19页 |
| 2.2.2 其他设备 | 第19-20页 |
| 2.3 实验方法 | 第20-22页 |
| 2.3.1 磁控溅射制备膜层过程 | 第20页 |
| 2.3.2 检测分析 | 第20-22页 |
| 第三章 镁合金表面磁控溅射铝膜的制备工艺研究 | 第22-34页 |
| 3.1 正交试验设计 | 第22-23页 |
| 3.2 正交试验结果分析 | 第23-27页 |
| 3.3 各指标与试验因素的关系 | 第27-32页 |
| 3.3.1 工艺因素对耐蚀性的影响 | 第27-28页 |
| 3.3.2 工艺因素对结合力的影响 | 第28-29页 |
| 3.3.3 工艺因素对膜层厚度的影响 | 第29-30页 |
| 3.3.4 工艺因素对粗糙度的影响 | 第30-31页 |
| 3.3.5 各指标关联性分析 | 第31-32页 |
| 3.4 本章小结 | 第32-34页 |
| 第四章 主要工艺参数对膜层组织和性能的影响 | 第34-53页 |
| 4.1 实验方案 | 第34页 |
| 4.2 工艺参数对膜层组织的影响 | 第34-46页 |
| 4.2.1 工艺因素对于膜层组织的影响 | 第34-39页 |
| 4.2.2 工艺因素对界面结合力的影响 | 第39-42页 |
| 4.2.3 工艺因素对于粗糙度的影响 | 第42-46页 |
| 4.3 工艺因素对膜层耐蚀性的影响 | 第46-51页 |
| 4.3.1 工艺因素对膜层电化学腐蚀的影响 | 第46-49页 |
| 4.3.2 腐蚀的基本过程 | 第49-51页 |
| 4.4 本章小结 | 第51-53页 |
| 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 个人简介 | 第58页 |
