| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 超导简史 | 第11-15页 |
| 1.1.1 超导与诺贝尔奖 | 第11-13页 |
| 1.1.2 超导材料的应用 | 第13-15页 |
| 1.2 Bi系高温超导体概述与研究现状 | 第15-20页 |
| 1.2.1 Bi系高温超导体晶体结构 | 第15-16页 |
| 1.2.2 Bi系高温超导体的结构特征 | 第16-17页 |
| 1.2.3 Bi系高温超导体研究现状 | 第17-19页 |
| 1.2.4 Bi系高温超导体织构特性研究现状 | 第19-20页 |
| 1.3 本文研究的意义与内容 | 第20-22页 |
| 1.3.1 研究意义 | 第20-21页 |
| 1.3.2 研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 实验原理与方法 | 第22-35页 |
| 2.1 织构 | 第22-27页 |
| 2.1.1 织构的定义与类型 | 第22-23页 |
| 2.1.2 织构的描述方法 | 第23-25页 |
| 2.1.3 织构的测定方法 | 第25-27页 |
| 2.2 Pechini Sol-Gel法制备Bi-2212超导薄膜 | 第27-31页 |
| 2.2.1 制备前驱溶液 | 第28-29页 |
| 2.2.2 溶胶 | 第29页 |
| 2.2.3 衬底处理 | 第29-30页 |
| 2.2.4 旋涂成膜 | 第30页 |
| 2.2.5 热处理烧结成相 | 第30-31页 |
| 2.3 X射线四圆操作原理 | 第31-35页 |
| 2.3.1 θ-2θ Scan | 第32页 |
| 2.3.2 Omega Scan(Rocking curve technique) | 第32-33页 |
| 2.3.3 Phy Scan | 第33-34页 |
| 2.3.4 Psi Scan | 第34-35页 |
| 第3章 Bi-2212超导薄膜的外延方向研究 | 第35-47页 |
| 3.1 Bi-2212薄膜制备条件 | 第35-36页 |
| 3.2 不同衬底对Bi-2212薄膜外延方向的影响研究 | 第36-40页 |
| 3.3 STO(100)单晶衬底上Bi-2212薄膜外延方向角发散研究 | 第40-46页 |
| 3.3.1 Bi-2212超导薄膜的晶体结构模型 | 第40-41页 |
| 3.3.2 烧结保温时间对外延角发散的影响 | 第41-43页 |
| 3.3.3 升温速率对外延角发散的影响 | 第43-44页 |
| 3.3.4 旋涂层数对外延角发散的影响 | 第44-46页 |
| 3.4 本章结论 | 第46-47页 |
| 第4章 Bi-2212超导薄膜的ab面内织构研究 | 第47-64页 |
| 4.1 不同错配度对Bi-2212薄膜面内取向的影响 | 第47-59页 |
| 4.1.1 Bi-2212薄膜面内取向的确定 | 第47-52页 |
| 4.1.2 不同错配度对Bi-2212薄膜面内取向的影响 | 第52-56页 |
| 4.1.3 Bi-2212在MgO(100)单晶衬底面内取向的模型推测 | 第56-59页 |
| 4.2 其他条件对Bi-2212薄膜面内取向的影响 | 第59-61页 |
| 4.2.1 衬底缺陷对Bi-2212薄膜面内取向的影响 | 第59-60页 |
| 4.2.2 旋涂层数对Bi-2212薄膜面内取向的影响 | 第60-61页 |
| 4.3 Bi-2212薄膜的极图分析 | 第61-63页 |
| 4.4 本章结论 | 第63-64页 |
| 第5章 结论与展望 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
