| 摘要 | 第8-9页 |
| ABSTRACT | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第11-20页 |
| 1.1 磁光效应 | 第11-13页 |
| 1.2 磁光椭偏技术的发展历程 | 第13-15页 |
| 1.3 基于磁光克尔效应的磁畴观测技术的发展现状 | 第15-18页 |
| 1.3.1 磁畴理论的起源与发展 | 第15-16页 |
| 1.3.2 磁畴的观测方法 | 第16-18页 |
| 1.4 论文的主要内容及章节安排 | 第18-20页 |
| 第二章 基于磁光克尔效应的磁光椭偏及磁畴成像原理 | 第20-32页 |
| 2.1 磁光克尔效应原理 | 第20-24页 |
| 2.2 磁光椭偏原理 | 第24-28页 |
| 2.3 基于磁光克尔效应的磁畴成像原理 | 第28-31页 |
| 2.3.1 磁畴理论 | 第28-30页 |
| 2.3.2 磁光显微成像理论 | 第30-31页 |
| 2.4 本章总结 | 第31-32页 |
| 第三章 各向异性磁性材料的纵向磁光克尔理论研究 | 第32-44页 |
| 3.1 各向异性磁性材料的纵向磁光克尔效应理论建模 | 第32-38页 |
| 3.2 各向异性Co/SiO_2薄膜材料的纵向克尔效应理论研究 | 第38-43页 |
| 3.3 本章总结 | 第43-44页 |
| 第四章 CoFeB薄膜材料的磁光椭偏分析 | 第44-50页 |
| 4.1 磁光椭偏系统的搭建 | 第44-45页 |
| 4.2 CoFeB薄膜材料的制备 | 第45-47页 |
| 4.3 CoFeB薄膜材料的磁光椭偏分析 | 第47-49页 |
| 4.3.1 CoFeB薄膜材料的磁光椭偏测试 | 第47页 |
| 4.3.2 结果分析与讨论 | 第47-49页 |
| 4.4 本章总结 | 第49-50页 |
| 第五章 宽视场磁光克尔成像系统的构建及优化 | 第50-61页 |
| 5.1 宽视场磁光克尔成像系统的构建 | 第50-54页 |
| 5.1.1 磁场系统 | 第51页 |
| 5.1.2 光路系统 | 第51-53页 |
| 5.1.3 信号采集系统 | 第53-54页 |
| 5.2 宽视场磁光克尔成像系统成像效果优化 | 第54-60页 |
| 5.2.1 宽视场磁光克尔成像系统成像效果优化的理论建模 | 第54-57页 |
| 5.2.2 宽视场磁光克尔成像系统成像质量优化的模拟分析 | 第57-60页 |
| 5.3 本章总结 | 第60-61页 |
| 第六章 总结与展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 主要科研成果 | 第69-70页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第70页 |
