| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-27页 |
| ·永磁材料的发展史 | 第9-10页 |
| ·烧结钕铁硼永磁材料的基本特征 | 第10-20页 |
| ·烧结钕铁硼永磁材料的相组成和晶体结构 | 第10-14页 |
| ·烧结钕铁硼永磁材料的性能表征 | 第14-18页 |
| ·常用添加元素 | 第18-20页 |
| ·烧结钕铁硼永磁体的制备技术进展 | 第20-23页 |
| ·细化晶粒工艺与无压烧结工艺 | 第21页 |
| ·脉冲磁场取向和橡胶等静压成型 | 第21-22页 |
| ·双合金工艺 | 第22页 |
| ·晶界扩散法 | 第22-23页 |
| ·低成本含Ce烧结钕铁硼永磁材料的发展现状 | 第23-25页 |
| ·论文选题意义与研究内容 | 第25-27页 |
| ·论文的研究意义 | 第25-26页 |
| ·论文研究的内容 | 第26-27页 |
| 第二章 实验过程与测量技术 | 第27-37页 |
| ·烧结钕铁硼永磁体的制备工艺 | 第27-31页 |
| ·速凝片制备 | 第27-28页 |
| ·氢破碎及气流磨 | 第28-29页 |
| ·成型 | 第29-30页 |
| ·烧结与回火 | 第30-31页 |
| ·分析测试方法 | 第31-37页 |
| ·激光粒度分析 | 第31-32页 |
| ·密度测试 | 第32页 |
| ·氧含量测试 | 第32-33页 |
| ·磁性能测试 | 第33页 |
| ·差热扫描分析 | 第33-34页 |
| ·X射线衍射分析 | 第34页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第34-35页 |
| ·透射电子显微镜 | 第35-37页 |
| 第三章 含Ce磁体制备工艺对磁体性能的影响 | 第37-53页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·高性能磁体的制备 | 第37-41页 |
| ·高性能磁体成分 | 第37-39页 |
| ·高性能磁体制备工艺的优化 | 第39-41页 |
| ·双主相法与单主相法制备含Ce磁体性能对比 | 第41-42页 |
| ·添加Ce对磁体制备工艺的影响 | 第42-50页 |
| ·速凝片制备 | 第42-44页 |
| ·氢破碎 | 第44-46页 |
| ·气流磨 | 第46-47页 |
| ·烧结 | 第47-48页 |
| ·回火 | 第48-50页 |
| ·添加Ce对磁体性能的影响 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 含Ce磁体的微观结构 | 第53-71页 |
| ·引言 | 第53页 |
| ·含Ce磁体内的晶体结构 | 第53-55页 |
| ·Nd_(30)Fe_(bal)B_1M和Ce_(15)Nd_(15)Fe_(bal)B_1M磁体粉末XRD | 第55-56页 |
| ·Ce_9Nd_(21)Fe_(bal)B_1M磁体的微观结构 | 第56-66页 |
| ·Ce_9Nd_(21)Fe_(bal)B_1M磁体主相 | 第56-58页 |
| ·双主相磁体性能的探讨 | 第58-60页 |
| ·Ce_9Nd_(21)Fe_(bal)B_1M磁体的晶界相 | 第60-64页 |
| ·Ce_9Nd_(21)Fe_(bal)B_1M磁体中晶界相与主相之间的位向关系 | 第64-66页 |
| ·Ce_(15)Nd_(15)Fe_(bal)B_1M磁体的微观结构分析 | 第66-68页 |
| ·Ce含量对磁体晶界相的影响 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第五章 含Ce磁体的工程化关键技术研究 | 第71-89页 |
| ·前言 | 第71页 |
| ·实验方法 | 第71-75页 |
| ·成分设计 | 第71-75页 |
| ·制备的关键技术对磁体性能的影响 | 第75-82页 |
| ·取向度 | 第75-77页 |
| ·氧含量 | 第77-79页 |
| ·粉末粒度 | 第79-80页 |
| ·制备工艺对磁体方形度的影响 | 第80-82页 |
| ·通过晶界调控技术制备烧结态高矫顽力磁体 | 第82-87页 |
| ·实验过程 | 第82-83页 |
| ·磁体微观结构分析 | 第83-87页 |
| ·本章小结 | 第87-89页 |
| 第六章 结论 | 第89-90页 |
| 参考文献 | 第90-100页 |
| 攻读博士论文期间发表论文情况 | 第100-101页 |
| 致谢 | 第101页 |
