摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-11页 |
第一章 绪论 | 第11-23页 |
·孔内表面光整加工技术综述 | 第11-17页 |
·液体磁性磨具光整加工技术概述 | 第17-20页 |
·液体磁性磨具的提出背景 | 第17-18页 |
·液体磁性磨具光整加工技术及其主要特点 | 第18-20页 |
·研究课题的背景、来源及意义 | 第20-21页 |
·本文主要研究内容 | 第21-23页 |
第二章 液体磁性磨具孔光整加工机理研究 | 第23-35页 |
·引言 | 第23页 |
·液体磁性磨具的流变性机理 | 第23-26页 |
·液体磁性磨具的组成及微观结构 | 第23-24页 |
·流变特性分析 | 第24-26页 |
·液体磁性磨具孔光整加工材料去除机理 | 第26-32页 |
·微观材料去除机理分析 | 第26-27页 |
·微观材料去除模型的比较分析 | 第27-29页 |
·宏观材料去除率模型的建立 | 第29-32页 |
·影响孔光整加工材料去除量的主要因素分析 | 第32-33页 |
·本章小结 | 第33-35页 |
第三章 液体磁性磨具孔光整加工实验研究 | 第35-57页 |
·引言 | 第35页 |
·孔光整加工实验装置设计 | 第35-45页 |
·实验装置的整体设计 | 第35-36页 |
·磁场发生装置选型设计 | 第36-39页 |
·挤压装置选型设计 | 第39-44页 |
·工件夹具设计 | 第44-45页 |
·实验设计 | 第45-48页 |
·试件 | 第45页 |
·液体磁性磨具的配制 | 第45-47页 |
·实验方案与工艺步骤 | 第47-48页 |
·实验结果 | 第48-56页 |
·加工时间对孔光整加工的影响 | 第49-50页 |
·磨料粒径对孔光整加工的影响 | 第50-52页 |
·电流强度对孔光整加工的影响 | 第52-53页 |
·入口压力对孔光整加工的影响 | 第53页 |
·加工表面形貌分析 | 第53-56页 |
·本章小结 | 第56-57页 |
第四章 孔光整加工工艺参数对表面粗糙度降低率的影响分析 | 第57-73页 |
·引言 | 第57页 |
·正交试验设计 | 第57-60页 |
·正交试验设计流程 | 第57-58页 |
·试验指标及因素水平的确定 | 第58-59页 |
·正交表的选用及实验方案确定 | 第59-60页 |
·工艺参数对表面粗糙度影响的方差分析 | 第60-67页 |
·方差分析基本原理 | 第60-64页 |
·粗糙度结果的计算与分析 | 第64-67页 |
·工艺参数对表面粗糙度降低率影响的灰色关联分析 | 第67-71页 |
·灰色关联分析的基本原理 | 第67页 |
·灰色关联分析建模 | 第67-68页 |
·粗糙度降低率的关联度计算与分析 | 第68-71页 |
·本章小结 | 第71-73页 |
第五章 孔光整加工粗糙度降低率预测模型 | 第73-91页 |
·引言 | 第73页 |
·灰色模型的数学原理 | 第73-74页 |
·灰色系统模型 | 第74-75页 |
·基于多变量的灰色组合模型 | 第75-78页 |
·液体磁性磨具孔光整加工粗糙度降低率模型建立 | 第78-87页 |
·多变量灰色组合模型的建立 | 第78-81页 |
·模型精度检验 | 第81-86页 |
·粗糙度降低率模型建立 | 第86-87页 |
·多变量灰色组合模型与多元线性回归模型预测精度比较 | 第87-89页 |
·本章小结 | 第89-91页 |
第六章 总结与展望 | 第91-93页 |
·本文主要研究工作 | 第91-92页 |
·未来研究工作展望 | 第92-93页 |
参考文献 | 第93-97页 |
附录 | 第97-109页 |
一、单因素实验数据 | 第97-102页 |
二、正交试验数据 | 第102-109页 |
致谢 | 第109-111页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第111页 |