摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
符号、变量、缩略词等本论文常用术语的注释表 | 第7-8页 |
目录 | 第8-10页 |
图表索引 | 第10-12页 |
第一章 椭偏仪简介 | 第12-16页 |
·椭偏仪的发展和现状 | 第12-13页 |
·椭偏仪的校准研究 | 第13-16页 |
第二章 椭偏仪的基本原理 | 第16-24页 |
·偏振光、起偏器和检偏器 | 第16-17页 |
·偏振光 | 第16-17页 |
·偏振光的获得与检测:起偏器与检偏器 | 第17页 |
·椭偏仪的结构与基本原理 | 第17-21页 |
·SE800光谱椭偏仪和UVSEL相位调制光谱椭偏仪 | 第21-24页 |
第三章 椭偏仪仪器特性研究 | 第24-29页 |
·椭偏仪原理 | 第24-26页 |
·通过直线模式测量考察起偏器和补偿器 | 第26-29页 |
第四章 溯源至反射比和延迟量标准的椭偏角校准研究 | 第29-44页 |
·椭偏仪量值溯源问题 | 第29-31页 |
·直线情况下的校准 | 第29-30页 |
·使用波片和标准反射样品校准Δ和ψ | 第30-31页 |
·计量特性考察 | 第31-37页 |
·基本计量特性的考察 | 第31-35页 |
·使用波片校准Δ | 第35-36页 |
·使用标准反射样品校准ψ | 第36-37页 |
·椭偏角校准实验 | 第37-39页 |
·椭偏角重复性 | 第37页 |
·椭偏角△的示值误差 | 第37-38页 |
·椭偏角ψ的示值误差 | 第38-39页 |
·实验结果不确定度分析 | 第39-44页 |
·数学模型 | 第39页 |
·方差和灵敏系数 | 第39页 |
·标准不确定度分量评定 | 第39-44页 |
第五章 椭偏仪在硅球表面层测量中的装置和校准研究 | 第44-53页 |
·简介 | 第44页 |
·硅球扫描系统 | 第44-47页 |
·晶向测试与标记 | 第44-45页 |
·扫描机构的方案比较 | 第45-46页 |
·自校准 | 第46-47页 |
·表面氧化层测量方法和实验结果 | 第47-49页 |
·晶向和球面曲率对硅球椭偏测量的影响 | 第49-51页 |
·不确定度分析 | 第51-52页 |
·本章小结 | 第52-53页 |
第六章 结论 | 第53-54页 |
参考文献 | 第54-56页 |
致谢 | 第56页 |