| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 主要符号表 | 第9-10页 |
| 第一章 前言 | 第10-31页 |
| ·DNA的生物背景 | 第10-13页 |
| ·DNA生物学基础 | 第10-12页 |
| ·细胞死亡通路 | 第12-13页 |
| ·射线与物质的相互作用 | 第13-25页 |
| ·辐射源 | 第13-14页 |
| ·电磁辐射 | 第14-16页 |
| ·电子辐射 | 第16页 |
| ·电子与分子作用过程 | 第16-20页 |
| ·直接作用与共振作用 | 第17-18页 |
| ·瞬态阴离子共振类型 | 第18-19页 |
| ·电子吸附的解离(DEA) | 第19-20页 |
| ·粒子的能量损失 | 第20-22页 |
| ·水与辐射 | 第22-25页 |
| ·低能电子在DNA损伤中的研究 | 第25-29页 |
| ·DNA损伤中的低能电子 | 第25-28页 |
| ·DNA损伤的应用 | 第28-29页 |
| ·本文立题依据 | 第29-31页 |
| 第二章 实验部分 | 第31-39页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第31-33页 |
| ·实验试剂 | 第31-32页 |
| ·实验仪器 | 第32-33页 |
| ·实验内容 | 第33-39页 |
| ·DNA的制备 | 第33-34页 |
| ·大肠杆菌的培养 | 第33-34页 |
| ·质粒DNA的提取 | 第34页 |
| ·DNA的表征 | 第34-35页 |
| ·DNA浓度以及纯度测定 | 第34页 |
| ·DNA组分含量校正 | 第34-35页 |
| ·实验条件控制 | 第35页 |
| ·基底材料选择 | 第35-36页 |
| ·光损伤实验 | 第36-39页 |
| ·DNA膜制备 | 第36页 |
| ·实验装置 | 第36-37页 |
| ·紫外辐照实验 | 第37-38页 |
| ·样品的回收与DNA损伤分析 | 第38-39页 |
| 第三章 极低能光生电子对DNA损伤的研究 | 第39-68页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·质粒DNA的表征 | 第39-41页 |
| ·DNA纯度与浓度测定 | 第39-41页 |
| ·DNA的组分含量校正 | 第41页 |
| ·实验条件控制 | 第41-46页 |
| ·光源选择以及其光谱对比 | 第42-43页 |
| ·光源热效应控制 | 第43-45页 |
| ·装置荷电消除与氮气流量控制 | 第45-46页 |
| ·基底材料选择 | 第46-52页 |
| ·光电流测定 | 第46-49页 |
| ·基底材料功函数测定 | 第49-50页 |
| ·实验装置背景值 | 第50-52页 |
| ·紫外诱导光生电子对DNA的损伤 | 第52-68页 |
| ·氙灯下DNA损伤的分析与评价 | 第52-60页 |
| ·辐射时间损伤曲线 | 第52-53页 |
| ·电子产率的计算 | 第53-55页 |
| ·DNA损伤量子产率的计算 | 第55-56页 |
| ·氙灯紫外光诱导DNA损伤的G-values的计算 | 第56-60页 |
| ·汞灯下DNA损伤的分析 | 第60-64页 |
| ·辐照时间损伤曲线 | 第60-62页 |
| ·DNA在钽基底上的成膜情况 | 第62-64页 |
| ·紫外诱导光生电子对DNA损伤的机理探究 | 第64-68页 |
| 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-76页 |
| 附录 | 第76-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 个人简历 | 第79-80页 |
| 在学期间研究成果 | 第80页 |