纳米结构碳膜场发射性能的研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-20页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·场发射机理 | 第11-14页 |
| ·表面势垒及电子发射 | 第11-12页 |
| ·场致电子发射方程 | 第12-13页 |
| ·场发射显示原理 | 第13页 |
| ·场致电子发射性能评价指标 | 第13-14页 |
| ·场发射阴极材料的研究进展 | 第14-19页 |
| ·硅场致发射材料 | 第14-15页 |
| ·金刚石材料 | 第15页 |
| ·非晶碳膜 | 第15-16页 |
| ·半导体化合物材料及一维纳米材料 | 第16-17页 |
| ·石墨烯 | 第17页 |
| ·碳纳米管薄膜 | 第17-19页 |
| ·本论文的研究目标 | 第19-20页 |
| 第二章 纳米结构碳膜 | 第20-28页 |
| ·纳米碳膜的发展 | 第20页 |
| ·碳纳米管制备方法及特性表征 | 第20-25页 |
| ·碳纳米管的结构 | 第20-21页 |
| ·碳纳米管的制备 | 第21-22页 |
| ·碳纳米管的特性表征 | 第22-25页 |
| ·石墨烯的制备方法及特性表征 | 第25-28页 |
| ·石墨烯的结构 | 第25页 |
| ·石墨烯的制备 | 第25-26页 |
| ·石墨烯的特性表征 | 第26-28页 |
| 第三章 实验流程及设备简介 | 第28-38页 |
| ·衬底的预处理 | 第28-33页 |
| ·衬底处理的细化实验流程 | 第28页 |
| ·机械研磨 | 第28-29页 |
| ·超声清洗 | 第29页 |
| ·电子束蒸发 | 第29-32页 |
| ·激光刻蚀 | 第32-33页 |
| ·纳米碳膜的制备 | 第33-35页 |
| ·纳米碳膜制备的细化实验流程 | 第33页 |
| ·微波等离子体化学气相沉积系统 | 第33-35页 |
| ·纳米碳膜的特性分析 | 第35-38页 |
| ·纳米碳膜特性分析的细化实验流程 | 第35-36页 |
| ·表面形貌及结构 | 第36页 |
| ·场发射性能测试 | 第36-38页 |
| 第四章 碳纳米管薄膜的制备及优化 | 第38-51页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·陶瓷片的预处理 | 第38页 |
| ·实验过程 | 第38页 |
| ·结果分析 | 第38页 |
| ·Mo 膜的制备 | 第38-39页 |
| ·实验过程 | 第38-39页 |
| ·结果分析 | 第39页 |
| ·衬底的激光刻蚀 | 第39-40页 |
| ·实验原理 | 第39-40页 |
| ·实验过程 | 第40页 |
| ·结果分析 | 第40页 |
| ·工艺参数对碳纳米管薄膜的影响 | 第40-45页 |
| ·工艺参数说明 | 第40-41页 |
| ·碳纳米管薄膜的制备 | 第41-42页 |
| ·实验结果分析 | 第42-45页 |
| ·最优实验条件下制备的碳纳米管薄膜特性研究 | 第45-50页 |
| ·碳纳米管薄膜的表面形貌 | 第45-46页 |
| ·碳纳米管薄膜的能量色散谱分析 | 第46页 |
| ·碳纳米管薄膜的拉曼光谱 | 第46-47页 |
| ·碳纳米管薄膜的场发射性能 | 第47-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 衬底材料对碳纳米管薄膜的影响 | 第51-60页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·铜膜衬底上的碳纳米管薄膜 | 第51-55页 |
| ·实验过程 | 第51-52页 |
| ·实验结果分析 | 第52-55页 |
| ·钼膜/铜膜衬底上的碳纳米管薄膜 | 第55-59页 |
| ·实验过程 | 第55-56页 |
| ·实验结果分析 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第六章 石墨烯的制备 | 第60-64页 |
| ·引言 | 第60页 |
| ·实验过程 | 第60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-63页 |
| ·表面形貌及微观结构 | 第60-61页 |
| ·场发射性能 | 第61-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第七章 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 在读期间公开发表的论文和承担科研项目及取得成果 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
