荧光示踪型缓蚀阻垢剂的合成及其性能评价
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-14页 |
| ·缓蚀阻垢剂分类 | 第8-10页 |
| ·缓蚀剂常用分类 | 第8页 |
| ·季铵盐类缓蚀剂 | 第8-9页 |
| ·聚合物类缓蚀阻垢剂 | 第9-10页 |
| ·缓蚀阻垢机理 | 第10-11页 |
| ·缓蚀功能基团机理 | 第10页 |
| ·阻垢剂功能基团的作用机理 | 第10-11页 |
| ·荧光示踪水处理剂技术 | 第11-12页 |
| ·荧光机理 | 第11页 |
| ·荧光标记水处理剂的应用 | 第11-12页 |
| ·国内外荧光示踪水处理剂的研究展望 | 第12页 |
| ·本课题的研究内容 | 第12-14页 |
| 2 荧光示踪型季铵盐的合成与性能评价 | 第14-58页 |
| ·概述 | 第14页 |
| ·主要原料和仪器 | 第14-15页 |
| ·主要原料 | 第14页 |
| ·主要仪器 | 第14-15页 |
| ·合成路线 | 第15页 |
| ·8代胺甲基香豆素类衍生物合成 | 第15-30页 |
| ·合成步骤 | 第15-16页 |
| ·合成机理推测 | 第16-17页 |
| ·产物表征 | 第17-22页 |
| ·晶体解析 | 第22-27页 |
| ·合成最优条件确定 | 第27-30页 |
| ·季铵盐单体合成 | 第30-40页 |
| ·合成步骤 | 第30页 |
| ·合成机理 | 第30-31页 |
| ·产物表征 | 第31-36页 |
| ·合成最优条件确定 | 第36-40页 |
| ·季铵盐单体性能研究 | 第40-58页 |
| ·缓蚀性能研究 | 第40-41页 |
| ·荧光性能分析 | 第41-42页 |
| ·结果和讨论 | 第42-58页 |
| 3 荧光示踪型聚合物的合成与性能评价 | 第58-83页 |
| ·概述 | 第58页 |
| ·主要原料和仪器 | 第58-59页 |
| ·主要原料 | 第58页 |
| ·主要仪器 | 第58-59页 |
| ·制备方法 | 第59-64页 |
| ·合成路线 | 第59页 |
| ·合成步骤 | 第59-60页 |
| ·聚合物表征 | 第60-64页 |
| ·聚合物的性能研究 | 第64-83页 |
| ·分子量的计算方法 | 第64页 |
| ·阻垢率测试方法(碳酸钙沉积法) | 第64-65页 |
| ·缓蚀性能分析 | 第65页 |
| ·荧光性能分析 | 第65页 |
| ·结果与讨论 | 第65-83页 |
| 4 结论与展望 | 第83-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-92页 |
| 附录 | 第92页 |
