| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 引言 | 第9-18页 |
| ·铁电体与铁电存储器 | 第9-11页 |
| ·铁电体 | 第9-10页 |
| ·铁电存储器 | 第10-11页 |
| ·非挥发非破坏性读取 FeFET | 第11-16页 |
| ·FeFET 的机理 | 第11页 |
| ·FeFET 的发展 | 第11-13页 |
| ·基于 FeFET 的非易失逻辑电路 | 第13-15页 |
| ·新型 FeFET | 第15-16页 |
| ·铁电电容 | 第16-17页 |
| ·铁电电容的特性与评价标准 | 第16页 |
| ·铁电电容的电离辐射 | 第16-17页 |
| ·章节安排 | 第17-18页 |
| 第2章 BNT 铁电薄膜的制备与测试 | 第18-29页 |
| ·BNT 铁电薄膜的制备 | 第18-21页 |
| ·用于 FeFET 的 BNT 铁电薄膜 | 第18-19页 |
| ·化学溶液沉积法制备薄膜的原理 | 第19页 |
| ·制备 BNT 薄膜的设备和原料 | 第19-21页 |
| ·BNT 薄膜的制备过程 | 第21-23页 |
| ·BNT 前躯体溶液配制 | 第21-22页 |
| ·BNT 薄膜的制备 | 第22-23页 |
| ·BNT 薄膜厚度的测试 | 第23页 |
| ·电学性能测试 | 第23-29页 |
| ·顶电极的制备 | 第23-24页 |
| ·测试仪器 | 第24-25页 |
| ·铁电电容的测试与分析 | 第25-29页 |
| 第3章 铁电电容的同步 X 射线辐照 | 第29-44页 |
| ·辐射实验 | 第29-36页 |
| ·X 射线的辐射环境 | 第29-30页 |
| ·辐射损伤机理 | 第30页 |
| ·同步辐射 X 射线衍射的实验设备 | 第30-31页 |
| ·光束线站操作方法 | 第31-34页 |
| ·辐照实验方法 | 第34-36页 |
| ·X 射线辐照效应 | 第36-43页 |
| ·同步 X 射线对 BNT 铁电薄膜电性能和微结构的影响 | 第36-41页 |
| ·BL14B 电场原位研究平台 | 第41-42页 |
| ·辐照前后漏电流的分析 | 第42页 |
| ·辐照前后疲劳的分析 | 第42-43页 |
| ·小结 | 第43-44页 |
| 第4章 铁电电容辐照效应的 TCAD 模拟 | 第44-54页 |
| ·TCAD 模拟软件 | 第44-45页 |
| ·仿真模型及器件结构 | 第45-50页 |
| ·仿真结果与分析 | 第50-52页 |
| ·辐照剂量的表征 | 第52-54页 |
| 第5章 总结与展望 | 第54-56页 |
| ·总结 | 第54页 |
| ·工作展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第61页 |