飞行时间质谱—光电子速度成像仪

摘要	第1-8页
Abstract	第8-9页
第一章 引言	第9-19页
·光解离	第9-12页
·光解离的类型	第9-11页
·光解离过程中的能量分布	第11-12页
·光电离	第12-13页
·单光子电离技术与多光子电离技术简介	第13-14页
·光电子谱	第14页
·飞行时间质谱技术简介	第14-15页
·离子成像技术简介	第15-17页
参考文献	第17-19页
第二章 飞行时间质谱-光电子速度成像仪	第19-41页
·飞行时间质谱系统	第19-28页
·飞行时间质谱基本原理	第19-20页
·单加速场与Wiley-McLaren双加速场	第20-24页
·质谱分辨率	第24-25页
·飞行时间质谱仪	第25-28页
·光电子速度成像系统	第28-34页
·光电子成像技术基本原理	第28-29页
·反阿贝尔变换	第29-31页
·光电子速度成像仪	第31-34页
·真空系统	第34-35页
·脉冲分子束系统	第35-38页
·激光系统	第38页
·时序控制系统	第38-39页
·电源系统	第39-40页
参考文献	第40-41页
第三章 氙和丁酮的飞行时间质谱与光电子速度成像	第41-50页
·实验条件	第41页
·氙原子多光子电离飞行时间质谱和光电子速度成像	第41-44页
·氙原子多光子电离飞行时间质谱	第41-42页
·氙原子多光子电离光电子速度成像	第42-44页
·丁酮分子多光子电离飞行时间质谱和光电子速度成像	第44-48页
·丁酮分子多光子电离飞行时间质谱	第44-46页
·丁酮分子多光子电离光电子速度成像	第46-48页
·小结	第48-49页
参考文献	第49-50页
第四章 总结与展望	第50-56页
·工作总结	第50-54页
·工作展望	第54-56页
硕士研究生学习期间完成的工作	第56-57页
致谢	第57页