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稀磁半导体隧道结GaN:Mn/AlN/GaN:Mn电导的第一性原理研究

摘要第1-6页
Abstract第6-7页
第一章 引言第7-14页
   ·稀磁半导体的研究现状第7-9页
   ·基于GaN的DMS的研究现状第9-11页
   ·磁性隧道结中隧穿电导的第一性原理研究第11-12页
   ·本文的研究目的和主要内容第12-14页
第二章 基本理论及计算方法第14-30页
   ·第一性原理的定义第14页
   ·绝热近似第14-16页
   ·密度泛函理论第16-21页
     ·密度泛函理论的基础——Hohenberg—Kohn定理第17-18页
     ·单电子化:Kohn—Sham方程第18-20页
     ·局域密度近似(LDA)与广义梯度近似(GGA)第20-21页
   ·自洽场计算第21-22页
   ·平面波赝势方法第22-23页
   ·周期性边界条件第23-24页
     ·Bloch定理与波函数的平面波展开第23-24页
     ·布里渊区k点的选取第24页
   ·结构优化第24-25页
   ·电导的计算第25-30页
第三章 稀磁半导体隧道结GaN:Mn/AlN/GaN:Mn电导第一性原理研究第30-46页
   ·计算参数选择第30页
   ·Mn掺杂浓度为12.5%时稀磁半导体隧道结GaN:Mn/AlN/GaN:Mn的研究第30-42页
     ·稀磁半导体隧道结GaN:Mn/AlN/GaN:Mn(0001)的几何结构第30-31页
     ·稀磁半导体隧道结GaN:Mn/AlN/GaN:Mn(0001)的电子结构第31-35页
     ·稀磁半导体隧道结GaN:Mn/AlN/GaN:Mn(0001)的电导第35-42页
   ·Mn掺杂浓度为6.25%时稀磁半导体隧道结GaN:Mn/AlN/GaN:Mn的研究第42-44页
   ·总结与展望第44-46页
参考文献第46-49页
致谢第49页

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