| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-26页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·氮化硅的基本结构、性质及应用 | 第11-14页 |
| ·氮化硅的基本结构 | 第11-12页 |
| ·氮化硅的基本性质 | 第12-13页 |
| ·氮化硅的主要应用 | 第13-14页 |
| ·氮化硅薄膜的制备途径 | 第14-24页 |
| ·直接氮化法 | 第14-15页 |
| ·化学气相沉积法 | 第15-16页 |
| ·物理气相沉积法 | 第16-24页 |
| ·本文的技术研究背景及内容 | 第24-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第2章 氮化硅薄膜的检测方法 | 第26-36页 |
| ·氮化硅薄膜的光学性能表征 | 第26-29页 |
| ·椭圆偏振仪 | 第26-27页 |
| ·紫外可见光分光光度计 | 第27-29页 |
| ·氮化硅薄膜结构的表征 | 第29-32页 |
| ·X射线衍射仪 | 第29-30页 |
| ·傅里叶变换红外光谱仪 | 第30-32页 |
| ·氮化硅薄膜成分的表征 | 第32-34页 |
| ·氮化硅薄膜形貌的表征 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第3章 实验方案及表征手段 | 第36-44页 |
| ·实验研究路线 | 第36页 |
| ·实验仪器与设备 | 第36-39页 |
| ·实验材料 | 第39页 |
| ·实验表征手段 | 第39-43页 |
| ·氮化硅薄膜光学性能的表征 | 第40-42页 |
| ·氮化硅薄膜结构的表征 | 第42页 |
| ·氮化硅薄膜成分的表征 | 第42-43页 |
| ·氮化硅薄膜表面形貌的表征 | 第43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 氮化硅薄膜的性能研究 | 第44-54页 |
| ·氮化硅薄膜的光学性能分析 | 第44-48页 |
| ·折射率随气压的变化趋势分析 | 第44-46页 |
| ·折射率随功率的变化趋势分析 | 第46页 |
| ·透过率随气压的变化趋势分析 | 第46-47页 |
| ·TFC膜系设计软件模拟与实测氮化硅薄膜透过率的比较 | 第47-48页 |
| ·氮化硅薄膜的结构分析 | 第48-49页 |
| ·X射线衍射分析 | 第48-49页 |
| ·FTIR傅里叶变换红外光谱分析 | 第49页 |
| ·氮化硅薄膜的成分分析 | 第49-50页 |
| ·氮化硅薄膜的表面形貌分析 | 第50-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第5章 热处理对氮化硅薄膜相关性能的影响 | 第54-60页 |
| ·热处理对氮化硅薄膜光学性能的影响 | 第54-56页 |
| ·热处理对本文氮化硅薄膜微观结构的影响 | 第56-58页 |
| ·热处理后的X射线衍射分析 | 第56页 |
| ·热处理后的FTIR傅里叶变换红外光谱测试 | 第56-58页 |
| ·热处理对氮化硅薄膜表面形貌的影响 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第6章 总结与展望 | 第60-62页 |
| ·总结 | 第60-61页 |
| ·展望 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第67页 |