摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
第一章 概述 | 第8-22页 |
·离子与固体及其表面碰撞研究的历史背景 | 第8页 |
·高电荷态离子与固体表面的相互作用 | 第8-18页 |
·离子诱发内壳层x射线的产生 | 第18-21页 |
·本工作的研究的背景和动机 | 第21-22页 |
第二章 本工作所涉及的模型理论 | 第22-32页 |
·经典过垒模型 | 第22-30页 |
·二体碰撞近似理论 | 第30-32页 |
第三章 实验装置 | 第32-40页 |
·电子回旋共振离子源 | 第32-33页 |
·束流传输 | 第33-36页 |
·靶室和样品 | 第36页 |
·探测和获取系统 | 第36-40页 |
第四章 ~(40)Ar~(q+)与金属表面相互作用的研究 | 第40-56页 |
·亚稳态Ar~(16+)与Mo和Be相互作用过程中Ar离子的x射线发射谱 | 第40-45页 |
·模型计算 | 第45-52页 |
·亚稳态Ar~(16+)离子在金属表面中和过程 | 第52-55页 |
·结论 | 第55-56页 |
第五章 ~(131)Xe~(q+)(q=25-30)碰撞诱发的金属内壳层的x射线发射 | 第56-64页 |
·Mo靶原子L壳层x射线产额 | 第56-58页 |
·Mo靶原子L壳层x射线产生截面以及电离截面 | 第58-60页 |
·实验结果与库仑偏转修正下的二体碰撞理论的比较 | 第60-63页 |
·结论 | 第63-64页 |
第六章 结论 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-70页 |
发表文章目录 | 第70-72页 |
致谢 | 第72-73页 |
附件 | 第73-81页 |