光学向量矩阵乘法器原理及其实现方法研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| ·研究背景 | 第10-13页 |
| ·OVMM 的发展与现状 | 第13-14页 |
| ·本文主要工作 | 第14-16页 |
| 第二章 向量矩阵乘法器的原理 | 第16-28页 |
| ·计算原理与算法研究 | 第16-21页 |
| ·矩阵运算原理 | 第16-17页 |
| ·OVMM 计算原理 | 第17-19页 |
| ·点积、卷积及DFT 运算 | 第19-21页 |
| ·高维数及高精度计算的解决算法 | 第21-25页 |
| ·高维数计算的解决算法 | 第21-23页 |
| ·高精度计算的解决算法 | 第23-25页 |
| ·协处理器工作模式 | 第25-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 基于SOA 的OVMM 实现方法研究 | 第28-44页 |
| ·基于SOA 的OVMM 系统结构 | 第28-29页 |
| ·核心模块实现 | 第29-38页 |
| ·调制及乘运算的实现 | 第29-33页 |
| ·和运算的实现 | 第33-38页 |
| ·2×2 向量矩阵乘法器系统实现 | 第38-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 器件性能及其对OVMM 影响的研究 | 第44-58页 |
| ·半导体光放大器及其对OVMM 的影响 | 第44-52页 |
| ·SOA 的原理 | 第44-45页 |
| ·SOA 的结构与驱动 | 第45-48页 |
| ·SOA 的特征参数 | 第48-51页 |
| ·SOA 参数对OVMM 的影响 | 第51-52页 |
| ·无源器件及其对OVMM 的影响 | 第52-57页 |
| ·波分复用器及其对OVMM 的影响 | 第52-55页 |
| ·耦合器及其对OVMM 的影响 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 集成化工艺探索 | 第58-72页 |
| ·集成化意义及方法 | 第58-60页 |
| ·二氧化硅波导制作工艺的研究 | 第60-71页 |
| ·晶圆清洗方法 | 第60-61页 |
| ·下包层芯层的应力优化与折射率调节 | 第61-65页 |
| ·不同掩膜层制备的研究 | 第65-68页 |
| ·刻蚀方法及优化 | 第68-69页 |
| ·上包层折射率匹配的研究 | 第69-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第六章 总结与展望 | 第72-74页 |
| ·本文工作总结及创新点 | 第72-73页 |
| ·研究展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 附录一 符号与标记 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第80-83页 |
| 上海交通大学硕士学位论文答辩决议书 | 第83页 |
