| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 第一章 引言 | 第6-16页 |
| ·高温超导及其应用发展现状 | 第6-8页 |
| ·YBCO外延薄膜所面临的问题 | 第8-9页 |
| ·高温超导氧化物薄膜外延机制研究进展 | 第9-11页 |
| ·c-axis取向生长YBCO薄膜外延生长模式的研究 | 第11-16页 |
| 第二章 脉冲激光沉积方法原理和薄膜形貌、结构分析方法 | 第16-24页 |
| ·脉冲激光沉积设备简介 | 第16-20页 |
| ·脉冲激光方法制备YBCO薄膜的基本过程分析 | 第20-21页 |
| ·实验中沉积参数调节的原理与方法 | 第21-24页 |
| 第三章 T1系高温超导薄膜的研制 | 第24-38页 |
| ·T1系高温超导薄膜的制备方法 | 第24页 |
| ·先驱膜的制备 | 第24-27页 |
| ·靶的制备 | 第24页 |
| ·先驱膜的制备极其化学组分的控制 | 第24-27页 |
| ·铊化过程 | 第27-37页 |
| ·铊化炉的设计 | 第27-29页 |
| ·铊源的制备 | 第29页 |
| ·铊化过程的研究 | 第29-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 致谢 | 第38页 |