| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-22页 |
| ·高温氧化物超导体结构机理的概述 | 第9-12页 |
| ·Josephson 结理论 | 第12-14页 |
| ·RSJ 模型 | 第14-17页 |
| ·高Tc 超导薄膜 | 第17-18页 |
| ·高Tc 超导约瑟夫森结 | 第18-21页 |
| ·人工晶界结 | 第19-20页 |
| ·S-N-S 临近效应结 | 第20页 |
| ·纳米微桥结 | 第20-21页 |
| ·微区弱化结 | 第21页 |
| ·结论 | 第21-22页 |
| 2 薄膜的制备 | 第22-31页 |
| ·薄膜制备技术 | 第22-24页 |
| ·磁控溅射 | 第22-23页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第23-24页 |
| ·脉冲激光沉积技术制备YBCO 薄膜 | 第24-30页 |
| ·影响YBCO 薄膜生长的主要参数 | 第24-26页 |
| ·YBCO 薄膜的制备 | 第26-27页 |
| ·实验结果 | 第27-30页 |
| ·小结 | 第30-31页 |
| 3 纳米金属掩膜和离子辐照技术制备高温超导约瑟夫森结 | 第31-51页 |
| ·微纳米加工技术简介 | 第31-38页 |
| ·光学曝光 | 第31-35页 |
| ·电子束曝光技术 | 第35-36页 |
| ·聚焦离子束系统 | 第36页 |
| ·刻蚀技术 | 第36-38页 |
| ·H_2~+离子注入对YBCO 薄膜性能的影响 | 第38-43页 |
| ·离子注入技术的介绍 | 第38-40页 |
| ·H_2~+离子注入对YBCO 薄膜材料性能的影响 | 第40-43页 |
| ·纳米桥型约瑟约瑟夫森器件的制备 | 第43-45页 |
| ·实验流程 | 第43-44页 |
| ·实验结果 | 第44-45页 |
| ·纳米金属掩膜和离子辐照技术制备高温超导约瑟夫森结 | 第45-50页 |
| ·实验过程 | 第47-49页 |
| ·实验中出现的问题 | 第49页 |
| ·实验结果 | 第49-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 4 结束语 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 附录 | 第56-58页 |
