酞菁薄膜材料气体传感器研制及其特性研究
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| ·气体传感器及其发展历程 | 第9-13页 |
| ·气体传感器及其分类 | 第9-11页 |
| ·气体传感器发展历程 | 第11-13页 |
| ·微结构气体传感器 | 第13-15页 |
| ·酞菁气体传感器 | 第15-19页 |
| ·酞菁蒸镀膜气体传感器 | 第15-17页 |
| ·酞菁 LB 膜气体传感器 | 第17-18页 |
| ·酞菁旋涂膜气体传感器 | 第18-19页 |
| ·酞菁气体传感器发展趋势 | 第19-20页 |
| ·本课题的主要研究工作 | 第20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第2章 酞菁配合物的气敏性和气敏性机理 | 第21-33页 |
| ·酞菁概述 | 第21-25页 |
| ·酞菁基本结构 | 第21-23页 |
| ·酞菁的特性 | 第23-24页 |
| ·酞菁的分类 | 第24-25页 |
| ·酞菁配合物的气敏机理 | 第25-28页 |
| ·酞菁配合物气敏特征的影响因素 | 第28-32页 |
| ·中心金属原子的影响 | 第28-29页 |
| ·取代基的影响 | 第29页 |
| ·成膜方式的影响 | 第29-31页 |
| ·掺杂的影响 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 金属酞菁的合成与表征 | 第33-51页 |
| ·前言 | 第33-40页 |
| ·酞菁配合物的合成方法 | 第33-36页 |
| ·气敏薄膜制备技术简介 | 第36-40页 |
| ·实验部分 | 第40-42页 |
| ·仪器和试剂 | 第40页 |
| ·金属酞菁的合成 | 第40-42页 |
| ·金属酞菁薄膜的制备 | 第42页 |
| ·酞菁薄膜的退火处理 | 第42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-49页 |
| ·X 射线衍射图（XRD） | 第42-44页 |
| ·紫外-可见吸收光谱 | 第44-46页 |
| ·红外光谱 | 第46-49页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第4章 气体传感器制作及特性测试 | 第51-72页 |
| ·半导体气体传感器的工作原理 | 第51-53页 |
| ·气体吸附理论 | 第53-55页 |
| ·气体传感器结构与制作 | 第55-60页 |
| ·气体传感器结构 | 第55-56页 |
| ·气体传感器工艺模拟 | 第56-57页 |
| ·气体传感器的制作 | 第57-60页 |
| ·气体传感器特性测试 | 第60-71页 |
| ·测试系统 | 第60-61页 |
| ·测试结果与分析 | 第61-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 结论 | 第72-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第82-83页 |
