| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-113页 |
| ·引言 | 第13-18页 |
| ·模板法构筑纳米有序结构材料的研究进展 | 第18-41页 |
| ·模板和模板法简介 | 第18-20页 |
| ·模板的分类 | 第20-38页 |
| ·模板法构筑纳米有序结构材料的制备技术 | 第38-41页 |
| ·液晶模板法的研究进展 | 第41-61页 |
| ·液晶简介 | 第41-44页 |
| ·液晶模板的形成机制与影响因素 | 第44-47页 |
| ·利用液晶模板电沉积制备纳米有序结构材料的机理 | 第47-52页 |
| ·液晶模板的研究手段 | 第52-57页 |
| ·液晶模板法的发展历史 | 第57-61页 |
| ·电化学电容器的研究进展 | 第61-90页 |
| ·电化学电容器的概述 | 第61-64页 |
| ·电化学电容器的基本原理和组成结构 | 第64-75页 |
| ·电化学电容器电极材料的研究进展 | 第75-88页 |
| ·电化学电容器的应用领域 | 第88-90页 |
| ·论文选题思路及主要研究内容 | 第90-92页 |
| 参考文献 | 第92-113页 |
| 第二章 Brij 56溶致液晶相与氢氧化镍六角纳米孔阵列薄膜的制备及性质研究 | 第113-127页 |
| ·引言 | 第113-114页 |
| ·实验部分 | 第114-115页 |
| ·Brij 56溶致液晶相的研究 | 第115-119页 |
| ·氢氧化镍六角纳米孔阵列薄膜的形貌、结构和电化学容量性能的初步研究 | 第119-123页 |
| ·本章小结 | 第123-124页 |
| 参考文献 | 第124-127页 |
| 第三章 沉积电位和退火温度对氢氧化镍六角纳米孔阵列薄膜的影响 | 第127-143页 |
| ·引言 | 第127-128页 |
| ·实验部分 | 第128-129页 |
| ·沉积电位对氢氧化镍六角纳米孔阵列薄膜的影响 | 第129-136页 |
| ·退火温度对氢氧化镍六角纳米孔阵列薄膜的影响 | 第136-140页 |
| ·本章小结 | 第140页 |
| 参考文献 | 第140-143页 |
| 第四章 经由溶致液晶模板电沉积路径制备氧化镍有序介孔薄膜电极 | 第143-158页 |
| ·引言 | 第143-144页 |
| ·实验部分 | 第144-146页 |
| ·退火温度对氢氧化镍六角纳米孔阵列薄膜的形貌、结构及性能的影响 | 第146-154页 |
| ·本章小结 | 第154-155页 |
| 参考文献 | 第155-158页 |
| 第五章 结论与展望 | 第158-160页 |
| 附录I 博士在读期间发表论文目录 | 第160-162页 |
| 致谢 | 第162-163页 |
