| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-20页 |
| ·薄膜光学原理 | 第8-11页 |
| ·薄膜的光干涉效应 | 第8-9页 |
| ·薄膜光干涉的应用 | 第9-11页 |
| ·光学薄膜的应用 | 第11-17页 |
| ·光学薄膜在显示器技术中的应用 | 第11-13页 |
| ·光学薄膜在太阳能电池中的应用 | 第13-14页 |
| ·光学薄膜在光通讯中的应用 | 第14-16页 |
| ·光学薄膜在激光器件中的应用 | 第16-17页 |
| ·Ta_2O_5薄膜及退火研究 | 第17-18页 |
| ·本课题的立题及主要工作 | 第18-20页 |
| 第2章 试验及薄膜表征 | 第20-36页 |
| ·膜料的性质 | 第20-23页 |
| ·真空镀膜机 | 第23-25页 |
| ·基片的清洗及制备参数 | 第25-26页 |
| ·基片位置 | 第26-28页 |
| ·薄膜的表征 | 第28-36页 |
| ·晶格结构(XRD) | 第28-30页 |
| ·薄膜成分(XPS) | 第30-31页 |
| ·表面信息(AFM) | 第31-33页 |
| ·透射率 | 第33页 |
| ·折射率 | 第33-36页 |
| 第3章 制备工艺对Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 | 第36-42页 |
| ·Ta_2O_5薄膜成分分析 | 第36-37页 |
| ·相结构分析 | 第36页 |
| ·XPS氧钽原子比分析 | 第36-37页 |
| ·本底真空对Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 | 第37-39页 |
| ·本底真空对薄膜透射性能的影响 | 第37-38页 |
| ·本底真空对薄膜折射率的影响 | 第38-39页 |
| ·离子源辅助对Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 | 第39-42页 |
| ·离子源辅助对薄膜透射率的影响 | 第39-40页 |
| ·离子源辅助对薄膜折射率的影响 | 第40-42页 |
| 第4章 退火对Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 | 第42-58页 |
| ·退火工艺 | 第42-43页 |
| ·退火温度对Ta_2O_5薄膜结构的影响 | 第43页 |
| ·退火温度对Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 | 第43-49页 |
| ·退火温度对无离子源Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 | 第43-45页 |
| ·退火温度对有离子源Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 | 第45-49页 |
| ·保温时间对Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 | 第49-53页 |
| ·保温时间对无离子源Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 | 第49-51页 |
| ·保温时间对有离子源Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 | 第51-53页 |
| ·保护气氛对无离子源Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 | 第53-58页 |
| ·氩气保护对薄膜光学性能的影响 | 第54-56页 |
| ·空气、氩气退火对Ta_2O_5薄膜光学性能影响的比较 | 第56-58页 |
| 第5章 Ta_2O_5薄膜生长及表面形貌 | 第58-68页 |
| ·Ta_2O_5薄膜的生长 | 第58-62页 |
| ·粗糙度结果及分析 | 第62-65页 |
| ·AFM相位图分析 | 第65-68页 |
| 第6章 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 附录:攻读硕士期间发表的论文 | 第76页 |
