| 第一章 绪论 | 第1-31页 |
| ·纳米科技的研究 | 第7-11页 |
| ·研究背景及意义 | 第7-9页 |
| ·国内外研究现状 | 第9-10页 |
| ·纳米光催化在环境保护中的应用 | 第10-11页 |
| ·半导体光催化的基本概念及原理 | 第11-18页 |
| ·基本概念 | 第11页 |
| ·纳米光催化剂 | 第11-13页 |
| ·纳米光催化剂粒子性质 | 第13-15页 |
| ·光催化反应机理 | 第15-18页 |
| ·提高半导体光催化活性的途径 | 第18-23页 |
| ·提高光生电子、空穴的分离效率 | 第18-19页 |
| ·增加表面活性中心的数量 | 第19-20页 |
| ·纳米TiO_2-SiO_2 复合半导体光催化剂的研究 | 第20-23页 |
| ·纳米粒子降解有机物和氮氧化物的光催化反应的研究.. | 第23-30页 |
| ·降解有机物的研究 | 第23-24页 |
| ·降解NOx 的研究 | 第24-26页 |
| ·光催化影响因素分析 | 第26-30页 |
| ·本论文研究内容 | 第30-31页 |
| 第二章 TIO_2-SIO_2复合半导体光催化剂的制备 | 第31-41页 |
| ·主要试剂和仪器 | 第31-32页 |
| ·TIO_2-SIO_2 复合半导体的制备 | 第32页 |
| ·光催化反应系统 | 第32-35页 |
| ·配气及光照系统 | 第32-34页 |
| ·检测系统 | 第34-35页 |
| ·TIO_2-SIO_2 复合粒子的制备条件对庚烯与二氧化氮降解光催化活性的影响 | 第35-41页 |
| ·硅的含量 | 第35-38页 |
| ·焙烧温度 | 第38-41页 |
| 第三章 光催化降解庚烯与二氧化氮的研究 | 第41-61页 |
| ·SIO_22/TIO_2 催化剂对庚烯的吸附研究 | 第41-42页 |
| ·降解庚烯与二氧化氮的最佳浓度选取 | 第42-49页 |
| ·产物测定及机理研究 | 第49-53页 |
| ·产物测定 | 第49-51页 |
| ·机理研究 | 第51-53页 |
| ·不同条件下的降解研究 | 第53-61页 |
| ·氧气含量的影响 | 第53-55页 |
| ·水分子含量的影响 | 第55-58页 |
| ·光照强度的影响 | 第58-61页 |
| 第四章 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-71页 |
| 摘要 | 第71-73页 |
| ABSTRACT | 第73-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
