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离子束辅助中频非平衡磁控溅射制备Ti-N-C膜的研究

独创性声明第1页
学位论文版权使用授权书第3-4页
摘要第4-5页
Abstract第5-7页
目录第7-11页
第一章 绪论第11-27页
   ·研究背景第11-12页
   ·Ti-N-C系列硬质薄膜介绍第12-23页
     ·Ti-N-C系列硬质膜的结构与性能第12-14页
     ·Ti-N-C系列膜的制各方法第14-18页
     ·Ti-N-C系列膜的表征第18-22页
     ·Ti-N-C系列膜的应用第22-23页
     ·Ti-N-C系列膜的研究方向第23页
   ·非平衡磁控溅射及中频孪生靶磁控溅射技术介绍第23-25页
   ·本文的研究内容第25-27页
第二章 实验设备和分析测试方法第27-34页
   ·实验设备第27-28页
   ·非平衡磁控溅射靶的磁场测量第28-30页
   ·膜层的分析测试方法第30-34页
     ·扫描电子显微镜(Scanning electron microscope,SEM)第30-31页
     ·X射线衍射仪(X-ray diffraction,XRD)第31页
     ·微纳米力学综合测试系统第31-32页
     ·大载荷划痕仪第32页
     ·显微硬度计第32页
     ·轮廓仪第32-33页
     ·分光光度计第33-34页
第三章 Ti/TiN薄膜的制备第34-44页
   ·TI/TIN薄膜制备第34-35页
   ·工艺参数对TIN颜色的影响第35-37页
     ·氮进气量对TiN膜颜色的影响第35-36页
     ·偏压对TiN膜颜色的影响第36-37页
     ·溅射功率对TiN膜颜色的影响第37页
   ·不同工艺参数下TIN膜层相分析第37-39页
   ·TIN膜层的表面形貌、厚度以及粗糙度的分析测试第39-40页
   ·TIN膜硬度测试第40-41页
     ·TiN膜的纳米硬度测试第40-41页
     ·不同基体上TiN膜的显微硬度测试第41页
   ·TI/TIN膜层结合力的测量第41-43页
     ·不同基体对膜层结合力的影响第41-43页
     ·霍尔源对膜层结合力的影响第43页
   ·本章小结第43-44页
第四章 Ti/TiN/Ti(C,N)薄膜的制备第44-62页
   ·TI/TIN/TI(C,N)薄膜制备第44-45页
   ·工艺参数对TI/TIN/TI(C,N)薄膜颜色的影响第45-48页
     ·工作气氛对Ti/TiN/Ti(C,N)薄膜颜色的影响第45-47页
     ·偏压对Ti/TiN/Ti(C,N)薄膜颜色的影响第47-48页
     ·溅射电流对Ti/TiN/Ti(C,N)薄膜颜色的影响第48页
   ·工艺参数对TI/TIN/TI(C,N)薄膜硬度的影响第48-53页
     ·工作气氛对Ti/TiN/Ti(C,N)薄膜硬度的影响第49-50页
     ·偏压对Ti/TiN/Ti(C,N)薄膜硬度的影响第50-51页
     ·基体材料对Ti/TiN/Ti(C,N)薄膜硬度的影响第51-53页
   ·工艺参数对TI/TIN/TI(C,N)薄膜晶体结构的影响第53-57页
     ·工作气氛对Ti/TiN/Ti(C,N)薄膜晶体结构的影响第53-54页
     ·偏压对Ti/TiN/Ti(C,N)薄膜晶体结构的影响第54-56页
     ·溅射功率对Ti/TiN/Ti(C,N)薄膜晶体结构的影响第56-57页
   ·磁控溅射TI/TIN/TI(C,N)薄膜的粗造度第57-59页
   ·TI/TIN/TI(C,N)薄膜结合力的测量第59-61页
     ·不同基体Ti/TiN/Ti(C,N)薄膜的剥离方式第59-60页
     ·霍尔源对Ti/TiN/Ti(C,N)薄膜结合力的影响第60-61页
   ·本章小结第61-62页
第五章 Ti/TiN/Ti(C,N)/TiC薄膜的制备第62-69页
   ·TI/TIN/TI(C,N)/TIC薄膜制备第62-63页
   ·TI/TIN/TI(C,N)/TIC薄膜的检测第63-68页
     ·工作气氛对Ti/TiN/Ti(C,N)/TiC薄膜颜色的影响第63-64页
     ·工作气氛对Ti/TiN/Ti(C,N)/TiC薄膜晶体结构的影响第64-66页
     ·膜厚的测量第66页
     ·基体对膜层硬度的影响第66-68页
   ·本章小结第68-69页
第六章 结论和建议第69-71页
   ·结论第69页
   ·建议第69-71页
参考文献第71-77页
致谢第77-79页
攻读学位期间发表的学术论文第79页

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