摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-11页 |
第一章 绪论 | 第11-20页 |
·物理因子对微生物诱变作用 | 第11-14页 |
·传统物理因子对微生物诱变作用 | 第11-12页 |
·离子束对微生物作用的研究 | 第12-14页 |
·高压静电场的生物学效应 | 第14-16页 |
·静电场概述 | 第14-15页 |
·高压静电场生物学效应 | 第15-16页 |
·金霉素研究现状和发展趋势 | 第16-18页 |
·金霉素的性质和用途 | 第17-18页 |
·饲用金霉素的市场发展现状 | 第18页 |
·金霉素链霉菌的诱变选育研究现状 | 第18页 |
·本论文研究的目的和内容 | 第18-20页 |
第二章 低能氮离子对金霉素链霉菌的诱变作用初探 | 第20-28页 |
·前言 | 第20页 |
·材料和方法 | 第20-23页 |
·菌种 | 第20页 |
·主要仪器 | 第20-21页 |
·主要试剂 | 第21页 |
·培养基 | 第21-22页 |
·实验方法 | 第22页 |
·氮离子注入诱变方法 | 第22-23页 |
·数据分析方法 | 第23页 |
·出发菌株的筛分 | 第23页 |
·结果和讨论 | 第23-28页 |
·CTC效价标准曲线的绘制 | 第23-24页 |
·氮离子注入参数对菌种存活率的影响 | 第24-25页 |
·低能氮离子注入金霉素链霉菌的诱变效果 | 第25-26页 |
·氮离子注入对金霉素链霉菌菌落形态的影响 | 第26页 |
·讨论 | 第26-28页 |
第三章 高压静电场对金霉素链霉菌孢子存活率及生长的影响 | 第28-34页 |
·前言 | 第28页 |
·材料和方法 | 第28-30页 |
·实验装置 | 第28-29页 |
·培养基及培养条件 | 第29页 |
·菌悬液的制备 | 第29页 |
·高压静电场处理方法 | 第29页 |
·金霉素链霉菌生长速度测定方法 | 第29-30页 |
·电场强度和处理时间参数设置 | 第30页 |
·数据分析方法 | 第30页 |
·结果与分析 | 第30-34页 |
·电场强度和处理时间对金霉素链霉菌存活率的作用效果 | 第30-32页 |
·高压静电场对金霉素链霉菌生长量的影响 | 第32-33页 |
·讨论 | 第33-34页 |
第四章 高压静电场对氮离子注入的金霉素链霉菌的影响 | 第34-46页 |
·前言 | 第34-35页 |
·材料和方法 | 第35-39页 |
·出发菌株 | 第35页 |
·粗酶液制备 | 第35页 |
·POD酶活测定方法 | 第35页 |
·CAT酶活的测定方法 | 第35页 |
·SOD酶活的测定方法 | 第35-36页 |
·蛋白含量的测定方法 | 第36页 |
·剂量确定 | 第36页 |
·工艺流程 | 第36-38页 |
·高产菌株的筛选系谱 | 第38-39页 |
·高产菌株的遗传稳定性 | 第39页 |
·结论与分析 | 第39-45页 |
·0.5kv/cm的静电场对氮离子处理的孢子存活率的影响 | 第39-40页 |
·0.5kv/cm的静电场对氮离子处理菌的诱变率的影响 | 第40-41页 |
·复合处理后菌落形态的变化 | 第41-42页 |
·高产菌株的生长曲线 | 第42-43页 |
·高产菌株的发酵曲线 | 第43页 |
·高产菌株的遗传稳定性研究 | 第43-44页 |
·高产菌株同工酶分析 | 第44-45页 |
·结论 | 第45-46页 |
第五章 高产菌株培养工艺的优化 | 第46-51页 |
·前言 | 第46页 |
·实验材料与方法 | 第46-47页 |
·实验材料 | 第46页 |
·实验方法 | 第46-47页 |
·结果与分析 | 第47-49页 |
·初始碳源、氮源对金霉素效价的影响 | 第47-48页 |
·培养条件的优化 | 第48-49页 |
·高产菌株培养工艺的确定 | 第49-51页 |
第六章 机理初步分析 | 第51-57页 |
·自由基、抗氧化酶及相关实验结果 | 第51-54页 |
·自由基 | 第51-52页 |
·抗氧化酶系 | 第52-53页 |
·自由基与抗氧化酶的相关实验结果 | 第53-54页 |
·机理初步分析 | 第54-57页 |
第七章 结论与展望 | 第57-59页 |
·结论 | 第57-58页 |
·展望 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-65页 |
致谢 | 第65-66页 |
攻读学位论文期间发表的学术论文 | 第66页 |