光学自适应微镜的设计与制造工艺
| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-20页 |
| ·研究背景 | 第6-10页 |
| ·MEMS及MOEMS系统研究概况 | 第6-7页 |
| ·MEMS主要加工工艺 | 第7-8页 |
| ·MEMS的主要应用 | 第8-9页 |
| ·MOEMS器件的优势与局限 | 第9-10页 |
| ·光学自适应微镜研究现状 | 第10-17页 |
| ·自适应光学系统 | 第10-11页 |
| ·微光学自适应系统 | 第11-12页 |
| ·变形镜 | 第12-14页 |
| ·微驱动器 | 第14-17页 |
| ·本课题研究内容 | 第17-18页 |
| ·课题特色和创新点 | 第18-19页 |
| 参考文献 | 第19-20页 |
| 第二章 光学自适应微镜的设计 | 第20-26页 |
| ·微镜工作原理 | 第20-21页 |
| ·自适应微镜单元的设计 | 第21-23页 |
| ·微镜单元结构 | 第21页 |
| ·理论依据 | 第21-22页 |
| ·材料选择 | 第22-23页 |
| ·自适应微镜阵列的设计 | 第23-25页 |
| ·自适应微镜阵列 | 第23-24页 |
| ·自适应微镜阵列尺寸 | 第24-25页 |
| 参考文献 | 第25-26页 |
| 第三章 微镜制作工艺 | 第26-53页 |
| ·MEMS加工制造工艺介绍 | 第26-30页 |
| ·表面微加工 | 第26-27页 |
| ·体微加工 | 第27-29页 |
| ·深度反应离子刻蚀 | 第29页 |
| ·深等离子体刻蚀技术 | 第29-30页 |
| ·微镜工艺实现方法 | 第30-35页 |
| ·微镜制造工艺流程的设备 | 第35-36页 |
| ·微镜制作 | 第36-51页 |
| ·硅片尺寸测量 | 第36-37页 |
| ·生长SiO2膜层 | 第37-38页 |
| ·掩模设计与制作 | 第38-41页 |
| ·光刻显影 | 第41-44页 |
| ·反应离子束刻蚀 | 第44-48页 |
| ·氢氟酸刻蚀 | 第48-49页 |
| ·化学湿法刻蚀 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 第四章 微镜测试结果和分析 | 第53-63页 |
| ·微镜表面粗糙度记录与分析 | 第53-56页 |
| ·微镜焦距变化测试 | 第56-62页 |
| ·测试原理 | 第56-58页 |
| ·测试结论 | 第58-62页 |
| 参考文献 | 第62-63页 |
| 第五章 总结与展望 | 第63-65页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| ·应用前景展望 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
