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高压隔离线性光电耦合组件研究

摘要第1-5页
Abstract第5-6页
目录第6-9页
第一章 引言第9-14页
   ·课题研究背景、目的及其意义第9-11页
   ·国内外发展动态及其趋势第11-12页
   ·本文主要研究内容第12-14页
第二章 光电耦合器件模拟信号隔离原理第14-29页
   ·三极管输出型光电耦合器第15-21页
     ·工作原理第15页
     ·基本参数第15-17页
     ·参数和特性说明第17-18页
     ·结构特点第18-19页
     ·封装特点第19-20页
     ·工作特点第20-21页
   ·线性光电耦合器第21-28页
     ·普通光耦的线性化使用第22-24页
     ·线性光耦器件的应用第24-28页
       ·TIL300 精密线性光耦第24-25页
       ·LOC110 线性光耦第25-28页
   ·小结第28-29页
第三章 高压隔离线性光电耦合组件的设计第29-48页
   ·组件结构设计第29-30页
   ·组件工作原理分析第30-31页
   ·线性光耦的设计第31-37页
     ·SLED 的设计第32-33页
     ·光敏三极管的设计第33-36页
       ·光敏三极管工作在基极引出状态第33-36页
       ·光敏三极管工作在发射极引出状态第36页
     ·线性光耦的结构设计第36-37页
   ·运放的设计第37-39页
     ·运算放大器的原理及介绍第37-38页
     ·运算放大器的分类第38页
     ·运算放大器AD820 的主要特点及性能指标第38-39页
   ·组件参数设计第39-43页
     ·组件电阻、电容参数的设计第39-40页
     ·组件隔离特性参数的设计第40-43页
       ·高压隔离绝缘材料的击穿机理第40-42页
       ·耦合距离的设计第42页
       ·可靠性设计第42-43页
   ·组件的非线性度第43-47页
     ·组件非线性度的定义第43页
     ·组件非线性度的分析第43-44页
     ·组件线性光耦部分的非线性度第44-47页
   ·组件的封装设计第47-48页
第四章 组件的研制及工艺设计第48-56页
   ·线性光耦的试验第48-50页
     ·空封的线性光耦第48-49页
     ·灌硅胶的线性光耦第49-50页
   ·工艺流程设计第50页
   ·工艺的具体要求第50-55页
     ·陶瓷管座制作第50-51页
     ·陶瓷载体制作第51页
     ·厚膜电路制作第51-52页
     ·芯片烧结压焊第52-53页
     ·电路焊接第53页
     ·中测1第53页
     ·灌封第53页
     ·中测2第53-54页
     ·电老化筛选第54页
     ·末测第54-55页
   ·组件的制作第55-56页
第五章 组件研制结果与分析第56-63页
   ·组件的重要特性参数第56-57页
   ·测试第57-61页
     ·非线性度的测试第57-58页
     ·带宽的测试第58-59页
     ·电压传输比的测试第59-60页
     ·隔离电阻的测试第60页
     ·隔离电压的测试第60-61页
     ·组件特性参数的测试结果第61页
   ·输入-输出特性曲线第61-63页
第六章 结束语第63-66页
   ·本文主要内容第63-64页
   ·本论文工作展望第64-66页
参考文献第66-68页
致 谢第68-69页
个人简历第69页
硕士期间发表的论文第69页

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