| 摘要 | 第1-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-19页 |
| 1．1 无掩模光刻技术 | 第8-14页 |
| 1．1．1 电子束直写技术 | 第9页 |
| 1．1．2 离子束光刻技术 | 第9-10页 |
| 1．1．3 干涉光刻技术 | 第10-14页 |
| 1．2 数字掩模光刻技术 | 第14-15页 |
| 1．3 本论文的主要内容 | 第15-16页 |
| 参考文献 | 第16-19页 |
| 第二章 DMD数字微镜装置 | 第19-40页 |
| 2．1 引言 | 第19页 |
| 2．2 空间光调制器(SLM) | 第19-24页 |
| 2．2．1 薄膜晶体管液晶显示器(TFT LCD) | 第20-23页 |
| 2．2．2 等离子体显示器件(PDP) | 第23-24页 |
| 2．3 数字微反射镜装置(DMD) | 第24-33页 |
| 2．3．1 DMD的基本结构 | 第24-27页 |
| 2．3．2 DMD的工作原理 | 第27-28页 |
| 2．3．3 DMD的特点 | 第28-31页 |
| 2．3．4 DMD的光学特性 | 第31-33页 |
| 2．4 基于 DMD的数字灰度掩模光刻技术 | 第33-35页 |
| 2．4．1 DMD的灰度量化 | 第33-35页 |
| 2．5 小结 | 第35页 |
| 参考文献 | 第35-40页 |
| 第三章 DMD光刻成像模拟和实验 | 第40-63页 |
| 3．1 引言 | 第40页 |
| 3．2 光刻成像系统 | 第40-44页 |
| 3．3 DMD的部分相干成像系统模型 | 第44-52页 |
| 3．3．1 相干与非相干成像理论 | 第44-46页 |
| 3．3．2 DMD单个微镜成像 | 第46-48页 |
| 3．3．3 DMD单个微镜成像模拟 | 第48-51页 |
| 3．3．4 DMD阵列的非相干成像 | 第51-52页 |
| 3．4 微透镜的 DMD成像模拟 | 第52-58页 |
| 3．4．1 DMD光刻制作 MOE的成像原理 | 第52页 |
| 3．4．2 计算机模拟与分析 | 第52-58页 |
| 3．5 实验 | 第58-60页 |
| 3．6 小结 | 第60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 第四章 总结 | 第63-64页 |
| 附录一 攻硕期间发表的论文 | 第64页 |
| 附录二 参加的科研项目 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 声明 | 第66页 |
| 学位论文版权使用授权书 | 第66页 |