| 内容提要 | 第1-3页 |
| 英文摘要 | 第3-7页 |
| 第一章 综述 | 第7-11页 |
| §1．1 磁性多层膜研究的材料体系 | 第7页 |
| §1．2 自发磁化强度的维度特性和Bloch定律 | 第7-8页 |
| §1．3 磁矩和磁相变的表面效应 | 第8-9页 |
| §1．4 磁性膜中重取向磁相图 | 第9-10页 |
| §1．5 本论文的组成 | 第10-11页 |
| 第二章 磁性多层膜的理论研究 | 第11-21页 |
| §2．1 磁性多层膜的结构与模型 | 第11-13页 |
| §2．2 随机模拟的Monte Carlo方法 | 第13-16页 |
| §2．3 转移矩阵法及其计算 | 第16-18页 |
| §2．4 有效分子场理论 | 第18-21页 |
| 第三章 磁化强度M（T）的温度特性的表面和尺寸效应 | 第21-29页 |
| §3．1 Bloch的自旋波激发理论 | 第21-23页 |
| §3．2 超薄膜的自发磁化强度M（T）的温度特性 | 第23-28页 |
| §3．3 结论 | 第28-29页 |
| 第四章 磁性多层膜表面和尺寸对相变的影响 | 第29-48页 |
| §4．1 具有单晶表面的简立方晶格的磁相变 | 第29-37页 |
| §4．2 具有非晶界面的简立方晶格的磁相变图 | 第37-39页 |
| §4．3 面心立方晶格的磁相变的表面效应 | 第39-42页 |
| §4．4 复杂磁性系统的磁相变研究 | 第42-46页 |
| §4．5 结论 | 第46-48页 |
| 第五章 磁性薄膜自旋重取向行为的Monte Carlo模拟 | 第48-55页 |
| §5．1 理论模型 | 第48页 |
| §5．2 结果与讨论 | 第48-54页 |
| §5．3 结论 | 第54-55页 |
| 第六章 结束语 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 在学期间发表的学术论文 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 中文摘要 | 第60-61页 |