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激光调阻机光刻平台系统控制研究与设计

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-6页
目录第6-10页
第一章 绪论第10-14页
   ·引言第10页
   ·激光产业发展现状第10-11页
   ·国内、外激光调阻机研制发展历程及现状第11页
   ·激光调阻机研究的意义第11-12页
   ·本文主要研究的内容第12-14页
第二章 激光调阻机及光刻平台系统概述第14-17页
   ·激光调阻机组成概述第14-15页
   ·光刻平台系统组成及各部分功能第15-16页
   ·小结第16-17页
第三章 激光调阻机光刻平台控制设计第17-39页
   ·光刻平台控制设计要求第17-18页
   ·光刻平台性能对激光调阻质量及速度的影响第18-22页
     ·动态性能对激光调阻质量的影响第18-20页
   1 标准的光刻痕第18-19页
   2 光刻痕横槽下陷第19页
   3 光刻横槽上翘第19-20页
     ·稳态性能对激光调阻质量的影响第20页
     ·定位精度对激光调阻质量的影响第20-21页
     ·光刻平台与测量探针机构的配合对调阻质量的影响第21-22页
     ·光刻平台对激光调阻速度的影响第22页
   ·光刻平台的控制方法设计及实现第22-37页
     ·控制方法第22-23页
     ·光刻平台的直线电机控制原理第23-24页
     ·提高动态与稳态性能的伺服增益参数方法设计第24-30页
   1 比例增益调整第25-28页
   2 积分增益调整第28-30页
     ·提高定位精度的斜率校正法(slope correction)控制设计第30-33页
   1 提高精度前定位精度测量与分析第30-31页
   2 斜率校正法(slope correction)控制原理第31-32页
   3 提高精度后精度测量数据与分析第32-33页
     ·提高换行速度的控制方法设计第33-37页
   1 采用光刻平台与探针组的并行控制方式第33-34页
   2 速度、加速度伺服参数设置第34-37页
   ·小结第37-39页
第四章 激光调阻机光刻平台系统程序设计第39-53页
   ·光刻程序总体设计思路第39-40页
   ·单片电阻光刻程序设计与实现流程第40-42页
     ·初始化程序第40-41页
     ·行同步处理程序第41-42页
     ·错误处理程序第42页
   ·全自动连续电阻光刻程序设计、实现与流程第42-45页
     ·初始化程序第43-44页
     ·自动供片、检片程序第44-45页
     ·自动收片流程第45页
   ·光刻平台系统与上位机的数据通信第45-47页
     ·建立以太网通信连接第45-46页
     ·上位机对光刻平台系统的参数设置及数据下载第46页
     ·光刻平台系统的错误信息报告第46页
     ·上位机对控制器工作方式的设置第46-47页
     ·上位机对光刻平台系统的直接命令操作第47页
   ·光刻平台系统与上位机的同步应答设计第47-49页
     ·同步应答的功能及连接第47-48页
     ·光刻过程中的应答工作方式设计及实现第48-49页
   ·光刻平台系统程序设计中采用的关键技术第49-52页
     ·模块化第50页
     ·多任务第50-51页
     ·优先级动态调度第51页
     ·冗余控制技术第51-52页
   ·小结第52-53页
第五章 激光调阻机光刻平台系统可视化在线调试设计第53-57页
   ·可视化在线调试的设计意义第53页
   ·可视化在线调试的设计与实现第53-56页
     ·光刻平台与光学系统校准参数调整第53-54页
     ·光刻平台与探针组位置校准参数调整第54-55页
     ·电阻片自动输送机械手位置参数调整第55-56页
   ·小结第56-57页
第六章 激光调阻机光刻平台系统可靠性设计第57-68页
   ·系统故障诊断设计第57-64页
     ·设计意义第57页
     ·故障产生原因分析第57-60页
     ·故障的动态判断方法第60页
     ·故障的“容忍性”第60-62页
     ·产生故障后的自动应对措施及人为处理方法第62-64页
   ·系统自保护设计第64-67页
     ·运动机构碰撞自保护第64-65页
     ·光刻平台电机自保护第65-66页
     ·人为操作失误自保护第66-67页
   ·小结第67-68页
第七章 结束语及对未来工作的设想第68-70页
参考文献第70-71页
发表文章目录第71-72页
致谢第72页

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